掩膜版烘烤机，光罩版恒温热板

   在集成电路制造领域，光刻技术被用来将图案从包含电路设计信息的光刻掩膜版上转移到晶圆(wafer)上，其中的光刻掩膜版(mask)，也称为光刻版、掩膜版或者光罩，是一种对于曝光光线具有透光性的平板，其上具有对于曝光光线具有遮光性的至少一个几何图形，所述几何图形为设计图形，可实现有选择的遮挡照射到晶片表面光刻胶上的光，并最终在晶圆表面的光刻胶上形成相应的图案。

掩膜版烘烤机，光罩版恒温热板技术参数

温度分辨率 ：0.1℃  

温度波动度：≤±0.5℃        

温度均匀性：≤±1%℃

电源输入：AC220V 10A         

加热功率：600/1500W......

控温范围：RT~200/300/400/500/600℃     

顶盖：SUS304不锈钢

密封性：保证腔体温度的稳定性，顶盖接口处密封处理

加热面板材料：阳极铝合金,度陶瓷面板，耐高温不锈钢

加热区：

160*160

220*220

280*200

520*260等多尺寸，可定制

可定制：

分体式；

真空加热台；

顶针自动控制；

PIN孔+PIN；

氮气保护......

  恒温热板用于固化光刻胶，固化环氧塑脂，可用于显微镜下使用以及其它需要高精度控温的场合等。适用于半导体光刻工艺的前烘和坚膜、电路模块的涂敷烧结和考核等工艺。工业各行业恒温加热样品的烘焙、干燥和作其他温度试验，是生物、遗传、医药卫生、环保、生化实验室、分析室、教学研究的的工具