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                        对于纳米的物料分散一直是人们关注的热点，纳米分散存在着难以解决的问题，纳米物料分散到流体物质当中容易形成二级团聚体，导致物料粒径变大，难以分散。面对这种情况，IKN研发出新型设备-研磨分散机，应对纳米物质的分散问题。并有着广泛的实例，如纳米级白炭黑的分散，纳米级石墨烯的分散，都在使用IKN研磨分散机进行分散处理，*。

  CMD2000系列研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

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级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
           

    
 第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

纳米分散机的特点

1   线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。

2   定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

3   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

4   在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

5   高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
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