真空卷绕晶化设备
真空卷绕晶化设备
真空卷绕晶化设备
真空卷绕晶化设备

首页>仪器主类>实验室设备>其它实验室设备

真空卷绕晶化设备

型号

该企业相似产品

可移动排气台

在线询价

小型分子泵组

在线询价

光纤贯穿真空密封法兰

在线询价

小型磁控溅射镀膜机

在线询价

真空标准件 真空阀门

在线询价

高真空气氛马弗炉

在线询价

真空气氛箱式炉 马弗炉

在线询价

钼螺钉钼隔热屏

在线询价
ALD设备,PECVD设备

公司名称(现用名):北京维意真空技术应用有限责任公司
公司名称(曾用名):北京科立方真空技术应用有限公司
覆盖区域:北京天津河北

    北京维意真空技术应用有限责任公司,原名北京科立方真空技术应用有限公司,创立于2013年,位于中国·首都北京密云经济技术开发区,主体经营分为真空配件销售真空设备定制浅蓝纳米科技三个部分,是北京从事真空产品设计、制造、销售、维修、保养于一体的专业性的公司,公司拥有一支专业、优秀的产品技术工程师和维修技术工程师,具有丰富的行业经验同时还与北京工业大学联合研发等离子体增强化学气相沉积系统,与北京交通大学联合研发原子层沉积系统,满足高校、研究所的教学、科研使用,同时减少相关进口设备的*,并力争创造外汇,打出中国创造的!  

    我们的客户遍布北京各高校研究院所、电力试验所、各级的材料、物理、化学、纳米等研究领域*的实验室,期待您就是我们的下一位客户、朋友!

    您的满意微笑是我们一直努力追求经营目标

技术创新、业务专业、服务诚信是我们一直遵循的经营理念!

 

我们热诚欢迎国内外*的仪器制造商及科学工作者与我们联系开展各层面的合作,打造成*的真空系统产品、等离子体增强化学气相沉积系统和原子层沉积系统供应商。

详细信息

主要技术规范

1、真空室内腔尺寸:宽×高×深:1950×1050×750(mm)

2、极限真空:1.3×10-4Pa(空载时)

3、抽气时间:从大气到9.7×10-4Pa≤50min

4、升压率:≤5Pa/h。

5、真空测量:双热偶电离复合真空计1台,热偶规2支,大气压-1Pa;

电离规2支,10Pa-10-5Pa。

6、可镀卷材:zui大幅宽:150mm,zui大卷径:φ=400mm

7、卷绕速度:0.1-10mm/min

8、加热器:

加热器高功率:IGBT电源,35KW(可根据用户要求配置)

数量:2个

加热区域:控温精度1℃,温度均匀性3℃

9、气氛控制:3台D07—7B/ZM型气体质量流量计,

10、真空系统:由脂润滑分子泵,前级机械泵,罗茨泵,电磁气动真

空阀门,真空管道组成。

11、冷却水:循环冷却水机。

去离子水电导率:小于50μ S /cm

压力:0.1~0.25MPa,  流量:约10T/h,水温<25℃

16、总功率:三相四线,380V,50HZ,80KV。

17、电气控制系统一套,主要元器件均为施耐德品牌。

18、总控系统:PLC控制,互锁设定,触摸屏显示(可根据要求定制)。

同类产品推荐

相关分类导航

产品参数

在线询价 在线询价
当前客户在线交流已关闭
请电话联系他 :