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红外成像锗透镜应用在热成像系统

锗透镜

型 号 :规 格 :材 料 :锗产品简介 :在2-12mu;m范围内，锗是制作红外成像系统中光学镜头和光学窗口***常用的材料。锗具有高折射率(2-14mu;m波段时约为4.0)、表面***小曲率和色差小的特性，在低功率成像系统中，通常不需要修正。

详细描述

在2-12mu;m范围内，锗是制作红外成像系统中光学镜头和光学窗口***常用的材料。锗具有高折射率(2-14mu;m波段时约为4.0)、表面***小曲率和色差小的特性，在低功率成像系统中，通常不需要修正。

锗受温度影响严重，透过率随温度的升高而降低，因此，它们只能在100聂氏度以下应用。在设计对重量有严格要求的系统的时候要考虑锗的密度(5.33 g/cm3)。锗主要应用在热成像系统和前视红外(FLIR)领域里面。

锗透镜

材料 锗

类型平凸 平凹 双凸 双凹 弯月

直径 5-300mm+0/-0.2

小心偏 lt;3分

焦距公差 plusmn;2%

面形 △Nlt;lambda;/4@633nm

表面质量 60/40

通光孔径 gt;90%

倒角 保护性lt;0.5mmX45度

红外成像锗透镜应用在热成像系统夜景拍聂常常使用较大的光圈和较长的曝光时间，假如选择较高的ISO感光度必将不可避免的产生噪点和杂色，因此，在光线比较暗淡的情况下进行拍聂，往往可以选择较高的ISO感光度。作此近似后，几何光学就可以不涉及光的物理本性，而能以其简便的方法解决光学仪器中的光学技术问题，截止范围的选择与采用的光源、所处的干扰光波长范围和所用的接收器的光谱响应范围有关，光学保护膜沉积在金属或其他软性易侵蚀材料或薄膜表面，用以增加其强度或稳定性，改进光学性质，
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