锂电池纳米二氧化钛研磨分散机

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GMSD2000/4 锂电池纳米二氧化钛研磨分散机

型号
GMSD2000/4
上海思峻机械设备有限公司

中级会员7年 

生产厂家

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分散机,研磨机,均质机,胶体磨,乳化机

上海思峻机械设备有限公司是一家依托德国SGN先进工业设备生产加工技术的中德合作创新型企业。公司通过引进德国SGN的先进技术、科学管理模式以及工业设备的销售模式等,培养了一大批在研发、制造以及销售等领域的人才!在德国SGN工业设备的基础上,思峻又自主创新开发了一批适应市场高要求的新型研磨分散设备。

公司主要研发、制造、销售流体领域的高*乳化机、胶体磨、均质机、分散机、研磨分散机、乳化泵、剪切泵、粉液混合机、成套多功能真空乳化机等设备,为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等领域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米级别。公司始终拥有一批在食品、化工、医药、新能源等领域有丰富经验的高*人才,能够专业为客户配备例如食品生产线、机械剥离法石墨烯生产线、氧化还原法石墨烯生产线、高纯度碳纳米管生产线、复合浆料生产线等。


公司特别注重设备的售后服务。依托一支技术扎实、服务贴切的售后团队,我们将致力于为客户提供整套的售后服务,在Z短的时间内为客户解决与合作相关的一系列问题。


“业精于专”是思峻公司的宗旨,专注人才、专注创新、专注品质、专注服务是公司一贯的追求和对您的承诺,我们坚信专注打造精品,专注将助力思峻在分散、乳化、均质的事业领域中勇攀高峰!









详细信息

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SGN锂电池纳米二氧化钛研磨分散机能够实现自动控制,且操作简单方便,机器运行很稳定。机器的拆洗很方便,不存在任何死角,可以做到*的清洗。

锐钛矿纳米二氧化钛比表面积大,在光催化,太阳能电池,环境净化,催化剂载体,锂电池以及气体传感器等方面得到广泛的应用。

纳米二氧化钛具有良好的快速充放电性能和较高的容量。经循环伏安研究表明,锂离子在纳米二氧化钛中同时存在两种动力学过程,即扩散控制的锂离子嵌入-脱出国产和赝电容性的动力学过程,更好地释放锂嵌入和脱嵌过程中的应力,提高循环寿命,这也是与纳米二氧化钛的特殊结构相关的。由于纳米二氧化钛)具有很好的化学稳定性和热稳定性,因此具有更广泛的应用范围。

纳米二氧化钛是一种优秀的锂嵌入载体,插锂电位在1.5-1.6V,形成Li0.91TiO2-B,具有优异的可逆循环容量。有意思的是,它的比容量要优于同种相的直径跟纳米线直径相仿的纳米粒子。

询价和技术问题请来电:李 ()   公司有样机可供客户购前实验,欢迎广大客户来我司参观指导。

主要技术指标:

项目

指标

型号

DC-TiO2-003

纳米二氧化钛外观

白色粉末

PH 值

6-8

水份%(105,2hr干燥失重)

≤1.0

平均原级粒径,nm

20

含量,%

≥99.9

比表面积   m2/g 

50-200

表面处理剂

锂电池活化剂处理

应用特点:

(1)可以有效的参杂到钴酸锂,锰酸锂,磷酸铁锂,三元材料里面,添加量一般在0.2-0.4%。

(2)由于所使用的染料敏化剂可以在很低的光能量下达到饱和。

(3)光的利用效率高,对光线的入射角度不敏感。

(4)对光阴影不敏感。

(5)可在很宽温度范围内正常工作。

(6)具有很高的光转化率

 

纳米二氧化钛电池的优点在于它廉价的成本和简单的工艺及稳定的性能。其光电效率稳定在10%以上,制作成本仅为硅太阳电池的1/5~1/10.寿命能达到20年以上。

 

研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

GMD2000为立式分体结构,有一定输送能力,可以处理高固含量有一定粘稠度物料,GM2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子,进行物料的推动输送;所有与物料接触部位均为316L不锈钢,机座采用304不锈钢;特殊要求如:硬度较大物料,对铁杂质要求严苛的物料,管道有一定压力并且需不间断运转的工况,可选磨头喷涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计,可通冷却或者升温介质。

 

研磨分散机的特点:

1 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

2 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

3 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

4 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

5 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

设备其它参数:

设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择 380V/50HZ220V/60HZ440V/50HZ
电机选配件 PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质SUS304 SUS316L SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

 

从设备角度来分析,影响研磨分散机效果因素有以下几点:

1.研磨头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次式要好)

2.研磨头的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齿形结构(分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好)

4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间(可以看作同等电机,流量越小效果越好)

5.循环次数(越多效果越好,到设备的期限就不能再好了。)

 

线速度的计算:

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
SGN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(转子直径)X 转速 RPM  /   60

 所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素,超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的

 

GMD2000系列研磨分散机设备选型表
 

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%

 

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