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GH-13MH 昆山国华等离子处理设备去半导体氧化膜
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- GH-13MH
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昆山国华电子科技有限公司是一家集等离子技术研发、生产、销售和推广于一体的高科技公司：秉承“服务创造价值、技术成就未来”的宗旨，为客户提供表面处理领域的整体解决方案。
公司由多名*从事等离子体技术应用研究，设备制造和销售的业内*人事创建。核心技术发展于欧洲，同时充分借鉴欧美的*技术，并通过与国内外研发机构合作，整合各行业的资源优势，生产出多系列具有自主知识产权的高性能的等离子体处理系统。集团合作团队包括 EUROPLASMA、PSM等，应用领域涉及电子、光电、汽车、塑胶、纺织、生物、医疗、化工、日用品及家电等行业。
公司成立以来已为众多企业、大学院校、研究机构提供等离子体处理设备和解决方案。售前可免费提供试样和方案认证，以竭诚服务各领域科研项目为公司的宗旨。
我们倡导技术创新，充分发挥新技术在企业经营中的主导作用，以满足客户的个性化需求为己任，为客户提供与等离子处理系统相关技术的支持与服务，致力于成为*的行业*！
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昆山国华等离子处理设备去半导体氧化膜
作为"新一代电子的基础材料"而备受显示器技术人员关注的就是氧化物半导体TFT。因为氧化物半导体TFT是驱动超高精细液晶面板、有机EL面板以及电子纸等新一代显示器的TFT材料佳候选之一。预计早将在2012~2013年开始实用化，将来或许还会成为具备"柔性"和"透明"等特点的电子元件的实现手段。
氧化物半导体是通常容易成为绝缘体的氧化物，但却具有半导体的性质。在众多物质当中，受关注的是"透明非晶氧化物半导体(TAOS:TransparentAmorphous Oxide Semiconductors)"。非晶IGZO(In-Ga-Zn-O)就是一个代表性例子。除了三星和LG显示器等韩国企业外，日本的夏普、凸版印刷以及佳能等企业也在致力于TFT的应用开发。
TAOS类TFT的载流子迁移率高达250px2/Vs以上，特性不均现象也较小。因此，可驱动像素为"4K×2K"(4000×2000像素级)、驱动频率为240Hz的新一代高清晰液晶显示器。当前的标准技术--非晶硅类TFT以及作为新一代技术而被大力开发的有机半导体TFT因载流子迁移率只有数cm2/Vs以下，很难应用到上述用途中。即使是在有机EL显示器领域，与开发案例较多的低温多晶硅类TFT相比，实现大屏幕化时还是TAOS类TFT具有优势这是因为AOS类TFT可以抑制有机EL面板中存在着的因TFT特性不均而导致的显示不均现象。TAOS薄膜可通过溅射法形成，制造成本也容易降低。
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