WGL光电轮廓仪

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雷磁WGL WGL光电轮廓仪

型号
雷磁WGL
参数
测量范围:在连续表面上,相邻二象素之间没有大于1 / 4 波长的高度突变时:1000 一1 测量精度:δRa ≤0.5nm 加工定制:否 用途:适用于测量各种量块、光学零件表面的粗糙度;标尺、度盘的刻线深度;光栅的槽形结构镀
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水质分析仪器,光学分析仪器,气体检测仪器,材料物性分析,生命科学仪器,实验室常规仪器,管道及防腐层检测,牛奶分析仪/乳品分析仪,农业和食品用仪器,牛奶分析仪
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详细信息

WGL光电轮廓仪   产品介绍 

特点:

   本仪器采用非接触、光学相移干涉测量方法,测量时不损伤工件表面,能快速测得各种工件表面微观形貌的立体图形,并分析计算出测量结果。适用于测量各种量块、光学零件表面的粗糙度;标尺、度盘的刻线深度;光栅的槽形结构镀层厚度和镀层边界处的结构形貌;磁(光)盘、磁头表面结构测量;硅片表面粗糙度及其上图形结构测量等等。

    由于仪器测量精度高,具有非接触和三维测量的特点,并采用计算机控制和快速分析、计算测量结果,本仪器适用于各级测试、计量研究单位工矿企业计量室,精密加工车间,也适用于高等院校和科学研究单位等。

WGL光电轮廓仪    主要技术参数


表面微观不平深度测量范围

在连续表面上,相邻二象素之间没有大于1 / 4 波长的高度突变时:1000 1nm 

相邻二象素之间含有大于1 / 4 波长的高度突变时:130 1nm 

测量的重复性:δRa 0.5nm 

物镜倍率:40X 

数值孔径:Φ 65 

工作距离:0.5mm 

仪器视场  目视Φ0.25mm

摄象: 0.13×0.13mm

仪器放大倍数 目视: 500×

摄象(计算机屏幕观察)一2500×

接收器测量列阵:1000X1000 

象素尺寸:5.2×5.2µm 

测量时间采样(扫描)时间:1S

仪器标准镜     反射率(高)50 % 

反射率(低)4 %

照明光源:白炽灯6V 5W

绿色干涉滤光片波长:λ≒530nm   

半宽度λ≒10nm   

主显微镜升程:110 mm 

工作台升程:5 mm 

、丫方向移动范围10 mm 

工作台旋转运动范围:360°

工作台顷斜范围:±6°

计算机系统:P4 , 2 .8G 以上,内存1G以上17寸纯平显示器

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产品参数

测量范围 在连续表面上,相邻二象素之间没有大于1 / 4 波长的高度突变时:1000 一1
测量精度 δRa ≤0.5nm
加工定制
用途 适用于测量各种量块、光学零件表面的粗糙度;标尺、度盘的刻线深度;光栅的槽形结构镀
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