起订量:
PDC-002-HP 高功率等离子清洗机
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经销商First-Nano System GmbH
2003年 创立于德国德累斯顿工业大学(Dresden University of Technology)
2008年 香港成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司
2015年 上海成立德国韦氏纳米系统(香港)有限公司中国代表处,负责中国区业务
德国韦氏纳米系统成立以来,一直为客户想的更多,Thinking more !!!
产品范围:
薄膜沉积/Thin Film Deposition
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蚀/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面处理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma
- Wet: Megasonic, Brush, SC1, SC2, Piranha, O3DIW
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems
主要特点:
1. 高功率等离子清洗机紧凑台式设备、没有RF放射、符合CE安全标准。
2. 功率为低、中、高三档可调
低功率档 30W
功率档 38W
高功率档 45W
低功率档功率相当于PDC-002 扩展型等离子清洗机的高 功率档设置
3. 高功率型:
- 自动风扇冷却
- 集成真空泵开关
- 清洗腔:长6.5英寸,直径6英寸,腔盖具有铰链和磁力锁, 可视窗口,可拆卸;
- 1/8NPT针孔阀控制气流及腔体压力;
- 整机尺寸:11英寸H × 18英寸W × 9英寸D;
- 重量:37 lbs;
4. 选配件
- 石英等离子清洗腔;
- 真空检测计;
- 气体流量混合器;
- 石英样品托盘;
- 真空泵;
应用案例 1
图为:两种工艺气体混合等离子清洗
图上:气体流量混合器
均匀混合两种工艺气体浓度,根 据 工艺气体流量的大小同时实时 检测清洗腔体真空度的浓度
图下:PDC-002-HP等离子清洗机
应用:
高功率等离子清洗机除了具有超清洗功能外,在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能。等离子体作用于材料表面,使表面分子的化学键发生重组,形成新的表面特性。对某些有特殊用途的材料,在超清洗过程中等离子清洗器的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性,并可消毒和杀菌。等离子清洗器广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。