电浆清洗机设备公司：诚峰智造

全自动On-Line式AP等离子处理系统CRF-APS-500W

型号（Model）

CRF-APS-500W

电源（Power supply）

220V/AC,50/60Hz

功率（Power）

1000W(Max)/13.56MHz

有效处理宽幅（Processing width）

120mm-2000mm(Option)

有效处理高度（Processing height）

1mm-3mm（Max）

处理速度（Processing speed）

0-5m/min

工作气体（Gas）

AR+O2

产品特点：低温处理过程，处理温度可< 35℃以下；

内置式冷却系统，提高和保证设备的使用寿命和性能；

灵活On-Line安装方式，电子和离子的能量可达10eV以上，材料批处理的效率可高于低气压辉光放电装置效率10倍以上。

应用范围：应用于FPC&PCB表面处理，复合型材料，玻璃，ITO等行业领域的表面处理；

等离子体处理可对材料进行有效的表面净化、表面活化、表面粗化、表面刻蚀、表面沉积。 

可有效去除物体表面有机污染物和氧化物。

主要特点：湿洗法清洗，表面一般都会有残留，而低温等离子体表面处理能做到超高洁净度的表面，且低温等离子体只对材料纳米级的表面起作用，不会改变材料原有的特性，在对表面洁净度要求较高的工艺中，正在取代湿法处理工艺而得到广泛使用。

处理机理：主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。气体被激发为等离子态；重粒子撞击固体表面；电子与活性基团与固体表面发生反应解析为新的气相物质而脱离表面。

等离子体清洗技术的特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。