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悬浮抛光液
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自动化设备
沈阳科晶自动化设备有限公司是由毕业于美国麻省理工学院的江晓平博士于
2000年5月创建。与合肥科晶材料技术有限公司、深圳市科晶智达科技有限公司同属于科晶联盟。自*SYJ-150低速金刚石切割机诞生以来，沈阳科晶便开始了以赶超国外同行、材料分析设备潮流为目标的发展历程。时至今日，已经拥有涵盖材料切割、研磨、抛光、涂膜、镀膜、混合、压轧、烧结、分析等领域以及相关耗材的上百种产品，可以满足晶体、陶瓷、玻璃、岩相、矿样、金属材料、耐火材料、复合材料、生物材料等制备分析的全套需要。
详细信息
产品简介：悬浮抛光液包括金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液。金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的精抛。二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的精抛。氧化铝抛光液主要用于透明陶瓷材料的抛光，也可用于其它材料的抛光，抛光过程中根据被抛光材料的不同选用适合的抛光液进行抛光，悬浮抛光液以液态形式存在，可均匀分布于抛光盘的表面，有利于抛光过程的顺利进行。
产品名称 | 金刚石悬浮抛光液、二氧化硅悬浮抛光液、氧化铝悬浮抛光液 |
主要特点 | 1、金刚石悬浮抛光液适用于氧化镁、氧化锆、铌酸锂、钛酸锶、钽酸锂及各种有色、黑色金属的精抛。 2、二氧化硅悬浮抛光液适用于砷化镓、磷化镓、单晶硅片、陶瓷、黑色金属及各种有色金属的精抛。 3、氧化铝抛光液主要用于透明陶瓷材料的抛光，也可用于其它材料的抛光。 |
产品参数 | 1、金刚石悬浮抛光液粒度：W0.25、W0.5、W1.0、W1.5、W2.5、W3.0、W3.5、W5.0、W7.0、W9.0 2、二氧化硅悬浮抛光液粒度：50nm 3、氧化铝悬浮抛光液粒度：50nm、80nm |
