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日本dip评估装置（膜厚计）AFW-100W
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详细信息
日本dip评估装置（膜厚计）AFW-100W
日本dip评估装置（膜厚计）AFW-100W
评估装置（膜厚计）
建议将反射光谱膜厚计用于硬涂层等膜厚测量应用。
[机理]当
用光照射样品时，取决于膜的厚度，它显示出*的光谱。膜表面上反射的光与穿过膜并在基板表面上反射的光相互干扰。当光的相位匹配时，强度增加，而当光的相位偏移时，强度降低。反射法是通过分析该光谱来测量膜厚的方法。
[优点]-
与SEM和测针型轮廓仪不同，无需接触即可进行测量。
-与椭偏仪相比，价格低廉且易于使用。
将来也可以将其安装在量产设备中。
| 模型 | AFW-100W |
|---|---|
| 用 | 一般膜厚 |
| 设备配置 | 单元本体，测量架，2分支光纤（1.5m），PC |
| 测量波长范围 | 380-1050纳米 |
| 膜厚测量范围 | 100nm〜1μm（曲线拟合法） |
| 1μm至60μm（FFT） | |
| 测量重现性 | 0.2％-1％（取决于胶片质量） |
| 测量光斑直径 | 约7mm |
| 光源 | 12V-50W卤素灯 |
| 测量理论 | 曲线拟合法/ FFT法 |
| 外形尺寸（mm） | 尺寸支架：W150 x D150 x H115 |
| 机身：W230 x D230 x H135 | |
| 大概重量 | 5.5kg *不包括PC |
| 公用事业 | AC100V 50/60赫兹 |
| 轰天猛将 | 卤素灯 |
测量工作量
从传感器正下方的深度尺寸（黄色箭头）：
可以测量126毫米8英寸晶圆。
显微分光膜测厚仪
通过使用显微镜，可以测量过去无法测量的具有不规则性的电子元件和曲面透镜。
| 名称 | 显微分光膜测厚仪 |
|---|---|
| 设备配置 | 显微镜，机身，光纤（1m），PC |
| 显微镜 | 奥林巴斯金相显微镜 |
| 测量波长范围 | 380-700纳米 |
| 膜厚测量范围 | 50nm-1.5μm（C / F） |
| 1.5μm至50μm（FFT） | |
| 测量重现性 | 0.2％-1％（取决于胶片质量） |
| 测量光斑直径 | Φ6μm至Φ120μm |
| 光源 | 12V-100W卤素灯 |
| 测量理论 | 曲线拟合法/ FFT法 |
| 外形尺寸（mm） | 显微镜：W317.5 x D602 x H480 |
| 机身：W230 x D230 x H135 | |
| 大概重量 | 25kg *不包括PC |
| 公用事业 | AC100V 50/60赫兹 |
| 轰天猛将 | 卤素灯 |
