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EPMA-8050G 场发射电子探针 太赫兹光谱仪
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· 硬度标尺 :4Be~92U
· 发射源:搭载高亮度肖特基发射体
· 二次电子图像分辨率:3nm(加速电压30kV)
· X射线取出角角度:52.5°,限度减少X射线被吸收
· 分光晶体:全聚焦型
· X射线谱仪:高灵敏度、高分辨率型
1 高亮度肖特基发射体
场发射电子枪采用的肖特基发射体比一般传统SEM使用的发射体针尖直径更大,输出更高。即可以保持其高亮度,还可提供高灵敏度分析*的稳定大电流。
2 EPMA专用电子光学系统
电子光学系统,聚光透镜尽可能的接近电子枪一侧,交叉点不是靠聚光透镜形成,而是由安装在与物镜光阑相同位置上,具有独立构成与控制方式的可变光阑透镜来形成交叉点的(日本:第4595778号)。简单的透镜结构,既能获得大束流,同时全部电流条件下设定最合适的打开角度,将电子束压缩到最细。当然是不需要更换物镜光阑的。
3 超高真空排气系统
电子枪室、中间室、分析腔体之间分别安装有筛孔(orifice)间隔方式的2级差动排气系统。中间室与分析腔体间的气流孔做到最小,以控制流入中间室的气体,使电子枪室始终保持着超高真空,确保发射体稳定工作。
4 高灵敏度X射线谱仪
最多可同时搭载5通道兼顾高灵敏度与高分辨率的4英寸X射线谱仪。52.5°的X射线取出角在提高了X射线信号的空间分辨率的同时,又可减小样品对X射线的吸收,实现高灵敏度的分析。