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抗粘 剂气相涂布烘箱,抗粘剂 气相沉积系统
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生产厂家上海隽思实验仪器有限公司(以下简称“隽思仪器”)是一家专业从事仪器设备研发、生产、销售及服务的企业。主要生产半导体工艺设备、环境模拟仪器设备、线缆试验机、橡塑试验检测设备、黑蒜设备等的高新技术型企业,具有很强的自主开发、设计能力,服务于电子、电力、通讯、环保、农业,建筑,节能等行业;多年来,公司以“真挚的服务、优质的品质”为宗旨,为国内外广大用户提供了周到的售前、售中、售后服务。赢得了国内外客户的*好评,更为我们业务的快速发展奠定了一定的基础。我们的服务也更精益求精,更完善!
隽思仪器主要业务有HMDS预处理系统,HMDS烘箱,洁净烤箱,百级洁净烘箱,氮气烘箱,高温无氧烘箱,真空无氧烘箱,无尘无氧化烘箱,抗粘剂涂胶机,精密恒温加热台,快速高低温气流仪,超低温试验箱,高低温试验箱,高低温交变湿热箱定做,HMDS真空涂胶烘箱,低温脆性检测仪,黑蒜发酵设备,导体直流电阻测试仪,电线电缆检测仪器,真空烘箱,黑蒜试验机,橡塑检测试验机等。
不断追求技术进步、提升专业服务能力,做一个专业的仪器设备供应商是我们的发展目标。企业内部实施了CRM、ERP项目管理,在产品开发、质量控制、集成供应链、人力资源管理、财务管理等诸多方面取得了长足发展。同时建立了标准化的服务流程,形成了覆盖全国的快速服务网络,以尽心尽责的服务理念和完备的技术得到用户的*称赞。我们将珍视每一次与您合做的机会,以饱满的热情、真诚的服务与您共创灿烂的未来!
抗粘 剂气相涂布烘箱,抗粘剂 气相沉积系统的用途:
在纳米压印工艺中,要求作为压印胶的聚合物和基底材料之间能有较强的附着能力,这样才能保证在退模过程中不会与基底脱离而导致结构被破坏;同时聚合物和模板之间应有尽可能低的界面能,以防止在退模过程中因聚合物与模板之间发生粘连影响压印质量用然可以通过选择合适的材料满足这样的要求。因此更多的是采用在模板上修饰抗粘层的办法。
抗粘剂气相成底膜烘箱,抗粘剂气相沉积系统主要用于纳米压印光刻(NIL)应用,防粘涂层的制备,可用于光刻工艺中HMDS增粘剂涂胶;以及功率半导体,LED,MEMS,半导体分立器件等硅烷沉积涂胶工艺。
抗粘 剂气相涂布烘箱,抗粘剂 气相沉积系统技术性能:
容量:1-12寸均可,300*300*300,450*450*450,600*600*600(mm)
硅烷添加剂:1-2种
内箱体材质:316L不锈钢
气体输入:1个(氮气)
工作温度范围:80-200/300°C
腔室压力控制:1tor~100tor
硅烷添加量:2 – 100mL
工艺选择:可同时设定5个工艺
正常运行时间:> 95%
涂胶原理:气相沉积法
真空泵:干泵
抗粘剂气相成底膜烘箱,抗粘剂气相沉积系统主要用于在纳米压印工艺中,要求作为压印胶的聚合物和基底材料之间能有较强的附着能力,这样才能保证在退模过程中不会与基底脱离而导致结构被破坏;同时聚合物和模板之间应有尽可能低的界面能,以防止在退模过程中因聚合物与模板之间发生粘连影响压印质量用然可以通过选择合适的材料满足这样的要求。因此更多的是采用在模板上修饰抗粘层的办法。