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HTM PECVD设备
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拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，是国家，主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司多次承担国家重大专项。2016年、2017年、2019年获评中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业”称号。公司于2020年在北京、上海、海宁成立三家子公司。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，拥有自主知识产权，技术指标达到国际同类产品*水平，产品主要应用于集成电路晶圆制造，以及TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED显示等技术领域。公司在北京、上海、武汉、合肥、天津、中国台湾等20多个地区的近40条生产线都设有技术服务中心，为客户提供每周7天，每天24小时的技术服务。
详细信息
NF-300H
HTM PECVD设备
产品特点
- 高产能设计和可实现多种薄膜沉积的快速切换
- 可实现多层SiO2，SiN（ONON）堆叠功能
- 满足300-600℃高温沉积需求
- PM腔内可进行多片wafer沉积和wafer自动升降旋转功能
- 通过S2安全认证
