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光刻机曝光光学系统±0.001℃精度温度传感器
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合肥智测电子有限公司成立于2003年，是一家专注于提供计量、校验、拥有自主产权的科研、办公、生产场地5000余平方米。公司于2019年获得高新区创新创业奖，同年挂牌科创版培育企业，2021年被评选为高新区瞪羚企业、合肥市企业技术中心和。公司高度重视自主研发和技术创新，将技术革新作为企业持续发展的原动力，取得一系列软件著作权、。智测电子坚守行业，专业致力于高精度电信号检测、高精度温度检测、高稳态温场发生及控制技术，研发生产计量校验仪器设备、检测仪器、传感器等，为用户提供可靠高效的解决方案。公司产品有标准智能测温仪、过程校验仪、智能干体计量炉、校准恒温槽、热偶炉、PCR仪温度校验、热阻热偶检定、环境试验设备温湿度校准、无线灭菌验证记录仪、纯蒸汽质量测试、温湿度记录仪等，广泛应用于计量、质检、生物医药、科教、工业等领域。公司同时具有完善的质量管理体系和贴心的售后服务，努力把专业的产品提供给更多的客户，并在客户验证中不断思考创新。合肥智测电子坚持以创新为驱动，以用户为中心，以品质创品牌，努力为客户提供更优秀更专业的产品和服务，精益求精，砥砺前行。
详细信息
引言
光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机工艺是由硅片处理、涂胶、前烘、曝光、后烘、显影、坚膜、检测。其中光刻机的检测尤为重要光刻胶在显影后在烘烤硬化坚膜。对刻蚀和离子注入工艺非常关键。正胶的坚膜烘培温度约为120℃到140℃。温度太高会产生光刻胶流动。因此温度对于光刻的成品率起着重要的决定性因素
光刻机工艺是由硅片处理、涂胶、前烘、曝光、后烘、显影、坚膜、检测。其中光刻机的检测尤为重要光刻胶在显影后在烘烤硬化坚膜。对刻蚀和离子注入工艺非常关键。正胶的坚膜烘培温度约为120℃到140℃。温度太高会产生光刻胶流动。因此温度对于光刻的成品率起着重要的决定性因素
产品介绍
NTC测量模块是一种以负温系数热敏电阻为感温探头的传感器。NTC是合肥智测电子有限公司的一款高精度热敏电阻测量产品，支持4线制热敏 电阻测量，测量zuida阻值250KΩ，精度±0.02℃。RS485接口支持MODBUS协议，包括MODBUS RTU和MODBUS ACSII协议，NTC测量模块采用24V直流电压供电，提供4线制热敏电阻温度测量，用户可输入NTC 特征参数，精度可达±0.02℃。模块配备了RS485通讯接口，支持MODBUS协议，可提供 用户二次开发。独立的电源开关可单独控制模块供电。
NTC测温模块广泛应用于电子、半导体、LED、空调,冰箱、冷柜、热水器、饮水机、暖风机、洗碗机、消毒柜、洗衣机、烘干机等家电设备上、汽车空调、水温传感器、进气温度传感器、发动机、开关电源、UPS不间断电源、变频器、电锅炉等
半导体生产涂胶机高精度测温模块、半导体生产涂胶机高精度测温仪、半导体生产涂胶机温度探头、半导体生产涂胶机温度传感器、光刻机曝光光学系统高精度测温模块、光刻机曝光光学系统高精度测温仪、光刻机曝光光学系统高精度温度探头、光刻机曝光光学系统温度传感器、浸没式光学系统高精度测温模块、浸没式光学系统高精度测温仪、浸没式光学系统高精度温度探头、浸没式光学系统高精度温度传感器、光刻机曝光光学系统高精度测温模块、光刻机曝光光学系统高精度测温仪、光刻机曝光光学系统高精度温度探头、光刻机曝光光学系统高精度温度传感器、半导体装备超洁净流体温度检测高精度测温模块、半导体装备超洁净流体温度检测高精度测温仪、半导体装备超洁净流体温度检测高精度温度探头、半导体装备超洁净流体温度检测高精度温度传感器、半导体装备流控系统温度检测高精度测温模块、半导体装备流控系统温度检测高精度测温仪、半导体装备流控系统温度检测高精度温度探头、半导体装备流控系统温度检测高精度温度传感器
