去离子水设备主要采用预处理、反渗透技术、EDI、混床、抛光床等工艺流程，能将水中的导电介质几乎全部取出，又能将水中不离解胶体物质、气体和有机物去除。适用于电子光电、化工冶金、电厂锅炉、电镀涂装行业；精密机械、汽车工业及医药纯化水等行业。

去离子水设备工艺流程

去离子水设备技术原理

    EDI (连续电解除盐技术) :是一种将离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术，除盐率高达99%，可以生产出电阻率高达15MΩ. CM以上的超纯水。

    FEDI：独立的分段设计，进水要求低，产水电导率40us/cm以下既可以满足供水要求，产水导电率可达0. 1us/cm以下，浓水可回收至反渗透系统，综合回收率高达90%-95%。

    抛光混床：一般情况用在工艺末端，用来进一步提高产水水质。采用高交换容量、充分再生、无化学析出的核子级树脂，去除纯水中残余的微量带电离子及弱电解质，使水质达到18MΩ. CM以上。

去离子水处理设备特性

    1、产水水质高，出水稳定，连续不间断制水，不因再生而停机

    2、自动化程度高，遇故障立即自停，具有自动保护功能

    3、*的膜保护系统，可自动冲洗，延长膜使用寿命，能耗低，水利用率高，运行费用及维修成本低

    4、去离子水设备结构紧凑，占地面积小，节省基建投资