大型晶片切割用超纯水设备概述

　　大型晶片切割用超纯水设备出水电阻可达15.0-17.0M&.CM。不用更换树脂，EDI模块可以稳定使用3-5年，降低耗材成本60%，多重安全保护，机箱精巧，外形美观。全电脑控制，工作状态显示，全自动运转。双路在线式水质监测系统，液晶数字显示。高纯度水对许多工商业工程非常重要，比如：半导体制造业和制药业。以前这些工业用的纯净水是用离子交换获得的。 然而，膜系统和膜处理过程作为预处理过程或离子交换系统的替代品越来越流行。如电除盐过程(EDI)之类的膜系统可以很干净地去除矿物质并可以连续工作。

　　大型晶片切割用超纯水设备功用

　　(1)砂滤器，功用：初步去除水中泥沙、杂质、悬浮物以及其它微粒等降低水的浊度。

　　(2)碳滤器，功用：利用碳的吸附原理吸附水中异色、异味、余氯等。

　　(3)软水器，功用：置换水中钙镁离子，降低水的硬度。

　　(4)反渗透主机，功用：主要是通过反渗透过滤，达到生产纯水之目的。

　　(5)EDI系统(EDI系统优势)，功用：EDI系统又称连续电除盐技术，通过阳阴离子膜对阳阴离子的选择透过作用以及离子交换树脂对水中离子的交换作用，在电场的作用下实现水中离子的定向迁移，从而达到水的深度净化除盐，并通过水电解产生的氢离子和氢氧根离子对装填树脂进行连续再生。

　　(6)核能混床，功用：进一步提升水质，保证出水符合标准。

　　大型晶片切割用超纯水设备优点

　　不用化学品再生。

　　水质可达18MΩ。

　　水质稳定且可按需要调整。

　　回收率高，可达90%以上，浓缩水也可回流再处理。

　　不添加化学品。

　　故障少，维修容易。

　　辽阳日月科技有限公司成功案例

　　辽阳日月科技有限公司占地面积达到11000平方米，建筑面积达到3700平方米。公司的注册资金达到180万美元，现有资产为2315万人民币，公司的职工达到200人，骨干均有多年的生产、管理经验。公司的生产条件非常*，资金雄厚。公司主要经营半导体封装，因此，离不开超纯水设备的使用，为此，与我们厂家建立了长期的合作协议，我们的超纯水设备质量可靠，价格合理，出水稳定，受到用户的一致认可。