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(带Load_Lock装置)全自动型感应耦合等离子体刻蚀机ICP-8000
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北京金盛微纳科技有限公司为国家、中关村,中国真空学会理事单位,中国电子专用设备工业协会、中国微米纳米技术学会会员单位。主要从事半导体设备、微细加工设备的产品研制、设计开发、生产销售,并开展相关工艺的研究及应用。主要产品有:匀胶机(SC)、烘胶台(BP)、曝光机、刻蚀机(RIE、ICP、IBE)、等离子体淀积台(PECVD)、磁控溅射台(Sputter)、去胶机、溅射/刻蚀/淀积一体机、键合炉等。产品应用范围涉及微电子、光电子、LED、MEMS、传感器、平板显示、通讯等领域,主要用于科研机构、大专院校、生产企业和公司进行各种器件的研究、开发和批量生产。公司建有“微细加工工艺示范线”以“开放实验室”的形式对各大专院校、研究院所、企业等相关研究、生产单位开放。在“开放实验室”里用户可获得:设备选型、项目预研与立项、合作攻关、工艺培训、外协加工等服务支持。
公司特点
产品成线:公司可提供面向用户研发与生产的工艺线上的核心设备,从匀烘系列、光刻系列、刻蚀系列、镀膜系列、去胶、键合系列到组合设备。设备产品成线奠定了产品研发和生产过程中设备的协同,提供了研发和生产有效的工艺、工序保障。
产品立体化:公司依据不同科研单位、大专院校和生产企业的需求,生产标准(手动)设备、自动设备、具有LOAD-LOCK功能的全自动设备,以及为特定用户个性化生产的组合设备。以此形成满足不同层面、不同个性化需求的立体化设备产品体系,自动化设备以及内嵌的专家工艺,为产品生产的稳定性、工艺的重复性提供了有效的硬件基础,使之更好地应用于科研和生产。
产品与工艺配套:依托公司完备的设备基础和优势的工艺力量,公司在产品设备上,开发了相应工艺,使之达到设备和工艺的结合,让用户获得效果及解决方案。公司的“开放试验室”还可提供完善、便捷的售后服务、技术支持,由此形成了既无前忧又无后顾的产品服务环境,成为公司产品占有市场的又一利器。
本设备采用PLC控制,触摸显示屏操作。其数字化参数界面和自动化操作方式为用户提供了优良的研发和生产平台。
设备通过对真空系统、下游压力闭环控制、射频电源、气体流量及工艺过程的自动控制,以及所具有的安全互锁、智能监控、在线状态记忆、断点保护等功能。从而获得较高的刻蚀速率,并能精确地控制图形的剖面。使设备的安全性、重复性、稳定性、可靠性得到有效保证。
本设备主要用于微电子、光电子、通讯、微机械等领域的器件研发和制造。
产品主要性能指标
型号 | ICP-2B | ICP-500 | ICP-5100 | |
真空系统 | 分子泵机组 | 进样室:机械泵系统;刻蚀室:分子泵机组 | ||
刻蚀室数量 | 单室 | |||
刻蚀室规格 | ø300× | |||
电极尺寸 | ø | |||
刻蚀材料 | Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、W、Mo、GaN、GaAs等 | |||
刻蚀速率 | 0.1 – 1 μ/min (与刻蚀材料和工艺有关) | |||
刻蚀不均匀性 | ≤±5% | |||
深硅刻蚀控制单元 | 可选 | |||
自动化程度 | 真空系统、下游压力闭环控制、射频电源、气体流量、工艺过程全自动控制。 | 真空系统、机械手送/取样片、下游压力闭环控制、射频电源、气体流量、工艺过程全自动控制。 | ||
人机界面 | Windows环境、触摸屏操作 | |||
操作方式 | 手动 | 全自动方式、非全自动方式 | ||
配套件选配 | 可选择进口件或国产件 |