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等离子刻蚀机
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等离子刻蚀机
等离子刻蚀机,又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀,是干法刻蚀中见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,从而形成了等离子或离子,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。
等离子刻蚀机的应用
等离子体处理可应用于所有的基材,甚至复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、等离子体清洗,等离子体镀膜也毫无问题。等离子体处理时的热负荷及机械负荷都很低,因此,低压等离子体也能处理敏感性材料。等离子刻蚀机的典型应用包括:
等离子体清除浮渣
光阻材料剥离
表面处理
各向异性和各向同性失效分析应用
材料改性
包装清洗
钝化层蚀刻
聚亚酰胺蚀刻
增强粘接力
生物医学应用
聚合反应
混合物清洗
预结合清洗
等离子刻蚀的影响因素
–气压(Pressure)。
–温度(Temperature)提高温度会提高刻蚀率。
–Micro-loading
–刻蚀后腐蚀(Post-etch corrosion)。
–残留物(residual)。