8英寸高精度程控匀胶机 旋涂仪 Spin Coater

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SYSC-200系列 8英寸高精度程控匀胶机 旋涂仪 Spin Coater

型号
SYSC-200系列

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工欲善其事 必先利其器 上海三研科技有限公司致力于为纳米薄膜材料、纳米粉体材料领域的科学研究及产品生产提供上等的仪器设备。我们的浸渍提拉镀膜机产品用于溶胶-凝胶法制备纳米薄膜材料。不同型号的提拉镀膜机,可用于从10mm至2000mm不同尺寸基片的纳米薄膜制备,可控制膜厚从几十纳米至几百纳米,可在恒温、气氛(氮气)条件下镀膜,可实现全自动多层材料的镀膜。采用高精度进口零部件,运行稳定、精密度高、无振动,镀膜无条纹,设备免维护。我们的高精度程控匀胶机产品采用高速伺服电机,可用于基底的单面旋转涂膜,基底材料可选硅片、玻璃、金属、塑料等材质,基底尺寸从?10mm~?300mm均可涂膜,全自动程序控制,运行稳定。我们可以提供溶胶-凝胶法制备薄膜材料的技术咨询服务,从前驱物的选择、溶胶的配置、镀膜、到热处理等一系列的工艺过程都是我们熟悉并擅长的。

详细信息



8英寸】 SYSC-200高精度程控匀胶机 旋涂仪 Spin Coater


一. 产品应用

SYSC-200系列高精度程控旋涂仪(Spin Coater),其*高转速可达12000rpm,*大旋转加速度可达60000rpm/s(有负载条件下的真实加速度)。具有速度精度高、转速稳定、的加速度、主动式速度调控、匀胶过程多段程序控制等特点。可用于微电子、半导体、光电器件、新能源、生物材料、光学器件等领域的各类高精密纳米功能涂层的制备。

二. 产品特点

1. 旋转电机采用专为匀胶机设计的精密高速伺服电机,具有高精度、高稳定性、高可靠性。

2. 优异的旋转加速性能,*大旋转加速度可达60000rpm/s(有负载的真实加速度)

3. 两项安全互锁功能

(1) 匀胶腔体具有开启、关闭的检测功能,确保腔体关闭后才可启动,防止匀胶过程中飞片造成 人身伤害;

(2) 真空吸片具有真空检测功能,若发生真空泄漏,基片无法吸附牢固,则立即停止运行。

4. 机身外壳采用SUS304不锈钢制作,防腐蚀、不生锈、易清洁。

5. 匀胶腔体采用德国劳士领NPP材料,经CNC一体加工成型。接储脱离基片的胶液,避免进入真空管路和设备内部。耐腐蚀、易清洁。

6. 旋转吸片台采用德国劳士领PEEK材料,经CNC一体加工成型。耐高温、耐腐蚀、不变形

7. 匀胶过程全自动分段程序控制。整个匀胶过程*多可分十段进行,每段的加速时间、旋转速度、匀胶时间均可精密控制、连续可调。可储存50组工艺程序,随时调用。

8. 7英寸液晶触摸屏使控制更方便;运行状态及各项参数实时显示,更直观了解匀胶进程;

9. 真空泵的开启与关闭均为自动程序控制,无需手动操作。

10. 旋转前增加预吸片步骤,预吸片时间*多为99s,确保基片牢固吸附于旋转台后再进行旋转涂膜。匀胶完成后增加解吸片步骤,解吸片时间*多为99s,确保安全停止后再切断真空,释放基片,防止涂膜后的基片滑落,对膜层造成损伤。

11. 标配无油真空泵,低噪音。大吸力将基片紧紧吸附于旋转台,防止飞片。

三. 技术参数

设备型号

技术参数

SYSC-200A

SYSC-200B

SYSC-200C

可镀膜基片尺寸

Ø10~200mm

Ø10~200mm

Ø10~200mm

旋转速度

108000rpm

1010000rpm

1012000rpm

转速分辨率

1rpm

1rpm

1rpm

速度精度性

0.02%

0.02%

0.02%

旋涂加速度*

0~40000rpm/s

0~50000rpm/s

0~60000rpm/s

每段加速时间

999.9s

999.9s

999.9s

每段旋涂时间

9999.9s

9999.9s

9999.9s

时间分辨率

0.1s

0.1s

0.1s

预吸片时间

99s

99s

99s

解吸片时间

99s

99s

99s

* *大旋涂加速度为有负载条件下(使用≤Ø100mm基片)的真实加速度







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