等离子刻蚀机
- 样片数量及尺寸：1片Ф6英寸
- 刻蚀材料：包括并不限于单晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、聚合物等
- 刻蚀不均匀性：±3%-±6%
- 刻蚀速率：0.1-4μm/min（视具体材料与工艺）
- 工作台：可升降，包含水冷
- 电源配置：下电极偏压，包含自动匹配
- 气路数量与种类：4路防腐蚀气路
- 操作模式：全自动+半自动控制
- 面议
参考价：
起订量：
等离子刻蚀机
- 型号
北京圣德威科技有限公司的核心技术团队拥有超过20年的等离子体设备研发、设计、制造和等离子体表面处理技术应用的丰富经验，我们有信心按照客户的需求，提供等离子体表面处理技术解决方案和服务。 创新、科技和质量是我们的核心价值观，带动我们成为等离子体表面处理技术领域的，凭借高度专业的等离子体设备制造技术和等离子体表面处理应用技术，我们必将成为您信赖的合作伙伴。核心团队由留英博士所至今已服务超过五百多客户我们的设备通过了*我们掌握核心等离子体处理技术并且不断在创新我们坚持自主研发并提供一体化的解决方案
详细信息
等离子刻蚀机是等离子表面处理工艺中非常重要的应用之一，在等离子刻蚀过程中，由通入真空腔体里的工艺气体产生高能的反应离子与工件表面发生物理轰击和化学反应，最终工件表面的材料被分解为挥发性的分子，被抽真空系统抽走。此工艺可蚀刻掉工件表面整个或部分面积，具有良好的各向异性和工艺可控性。我们的等离子刻蚀机已被广泛应用于半导体硅片、IC封装、微电子产品制造等领域。我们不但提供等离子刻蚀机同时也提供等离子刻蚀工艺解决方案。
