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三靶高真空磁控镀膜溅射系统
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经销商沈阳科晶自动化设备有限公司是由毕业于美国麻省理工学院的江晓平博士于
2000年5月创建。与合肥科晶材料技术有限公司、深圳市科晶智达科技有限公司同属于科晶联盟。自*SYJ-150低速金刚石切割机诞生以来,沈阳科晶便开始了以赶超国外同行、材料分析设备潮流为目标的发展历程。时至今日,已经拥有涵盖材料切割、研磨、抛光、涂膜、镀膜、混合、压轧、烧结、分析等领域以及相关耗材的上百种产品,可以满足晶体、陶瓷、玻璃、岩相、矿样、金属材料、耐火材料、复合材料、生物材料等制备分析的全套需要。
产品简介:该设备为小型三靶磁控溅射镀膜设备,通过模块式化设计后,系统安装方便灵活易于维护,适合科研与教学实验使用。
产品型号 | 三靶高真空磁控镀膜溅射系统 |
主要特点 | 1、组成由单室超高真空双靶磁控溅射室,由溅射真空室与管路组成。 2、配有旁抽系统,启动快不停机即可更换样品,重复性好。 3、用于镀制各种单层膜、多层膜系,可实现单靶独立、双靶轮流、双靶共溅射等溅射模式。 4、同时可以实现反应磁控溅射,制备氮化物,氧化物等,可镀金属及导磁金属、合金、化合物、半导体、介质复合膜和其它化学反应膜。 5、作为试验设备来说达到了的性能价格比。 |
技术参数 | 系统由真空腔室、旋转样品架、磁控溅射靶、铠装加热器、抽气系统、真空测量、工作气路、电控系统等各部分组成。 极限真空优于:5.0x10-5Pa(经烘烤除气后) 真空漏率小于2.0x10-8Pa.l/S 系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,40分钟可达到6.0x10-4Pa; 停泵关机12小时后真空度:≤5 Pa 1、 真空室腔体尺寸Ф300x350mm,手动上开盖辅助液压结构,前有一个观察窗,样品台可旋转内部连接铠装加热器、真空规、放气阀等各种规格的法兰接口,选用优质不锈钢材料制造,氩弧焊接,表面采用电解抛光处理。采用金属或氟橡胶圈密封。配备一体机柜标准电箱。 2、磁控溅射靶 靶材尺寸:Φ50mm(其中一个可以溅射磁性材料); 永磁靶一支、强磁靶一支:射频溅射与直流溅射兼容,靶内有水冷;配手动挡板。 2个靶可共同向下面的样品中心溅射,靶与样品距离90~110mm可调。 3、铠装加热样品: 加热区域为Φ100mmX100mm(H),基片加热温度 室温-600°C±1°C,由热电偶闭环反馈控制。 配有磁力转轴,电机驱动每分钟低于30转。 |
标准配件 | 1、真空部件 进气角阀:2套; RF100观察窗:1套; 观察窗法兰:RF100 2个; 电阻规: KF16 1个; 电极引线: CF25 1个; 2、工作真空获得及测量: 直联6L/s机械泵: 1台; F600分子泵:1台; 电磁KF20阀:1台; 5227真空计:1台 角阀RF16、管路、接头、充气阀D6等: 1路; KF25电磁压差阀: 1台; CF100闸板阀:1台; 3、相关规格的金属密封铜圈,氟橡胶密封圈 4、不锈钢紧固螺栓、螺母、垫片等 5、安装机台架组件: 安装台架:整个设备安放在一个用承载式标准电箱上,箱体均进行喷塑处理。拆卸方便占地小780mmX580mmx1100mm。 6、电源控制系统 电源布置在标准电箱上,安装于系统机架上。 7、自制电源 控制电源:1台(为机械泵、电磁阀等提供电源及过程控制带逻辑监测); 样品加热电源:1台(日本产控温表可实现程序控温)室温-600°C±1°C,由热电偶闭环反馈控制。 8、配套电源 真空计电源:1套 直流DC500W电源:2套 流量显示、流量控制器:1套 9、备品备件:1套 |