自洁涂料高剪切研磨分散机 

纳米超亲水自洁涂料高速分散机，二氧化硅分散机，纳米二氧化硅高速分散机，纳米防水涂料 ，水性超亲水无机纳米树脂高速分散机是指将不溶固体颗粒分散到液体中在液体介质中的分散体系。在分散过程中，往往需要减小固体颗粒，这就是湿磨或高剪切分散。

超亲水自清洁涂料是由水性超亲水无机纳米树脂，配合高活性光触媒配制而成。在太阳光的照射和雨水冲刷下下可有效保持表面的洁净，减少灰尘和脏污附着，另外涂层具有增透作用，有效增加可见光的透过率。可广泛用于太阳能电池板表面、建筑玻璃幕墙清洁、镜面防雾、汽车后视镜防雨滴等市场领域。

经过简单擦涂、喷涂，可在30min常温迅速固化。

如何快速分散亲水无机纳米树脂 是需要解决问题  

1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）

2 分散头的剪切速率 （越大，效果越好）

3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）

4 物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
SID定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60

高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是*重要的。根据一些行业特殊要求，希德公司在XM2000系列的基础上又开发出XMD2000超高速剪切研磨分散机。其剪切速率可以超过20000 rpm，转子的速度可以达到66m/s。在该速度范围内，由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强，乳液的粒经分布更窄。由于能量密度,无需其他辅助分散设备,可以达到普通的高压均质机的400BAR压力下的颗粒大小.

2、设备特点

⑴  XMD设备与传统设备相比：

高效、节能

传统设备需8小时的分散加工过程，ERS设备1小时左右完成，超细分散，能耗*降低；

高速、高品质

传统设备的搅拌转速每分钟几十转，带分散功能的转速每分钟1500转以内，只完成宏观分散加工，超细分散能力极为有限；ERS设备的转速每分钟10000～15000转之间，超高线速度产生的剪切力，瞬间超细分散浆料中的粉体。

⑵ XMD设备与同类设备相比：

多层多向剪切分散

同类设备的定转子等部件结构单一，多级多层的结构是单纯重复性加工，相同的齿槽结构易发生物料未经分散便通过工作腔的短路现象；

XMD设备的定转子结构采用多层多向剪切概念，装配式结构使物料得到不同方向剪切分散，杜绝了短路现象，超细分散更为。

XMD2000进口超高剪切研磨分散机
研磨分散机是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。

级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

以下为型号表供参考：

自洁涂料高剪切研磨分散机