真空等离子清洗机TS-PL150MA

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TS-PL150MA 真空等离子清洗机TS-PL150MA

型号
TS-PL150MA

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深圳市东信高科自动化设备有限公司始创于1998年,是中国早期一批专业从事真空及大气低温等离孑体(电浆)技术、射频及微波等离子体技术研发、生产、销售于一体的国家髙新技术企业,隶属于东信髙科等离子科技(香港)控股有限公司,总部设于香港。目前公司设立有等离子事业部,超声清洗事业部,自动化设备事业部,塑胶焊接事业部。产品涉及等离子体表面处理设眢,超声波淸洗设备、电镀、制冷等环保自动化设备等。公司现有厂房面积7000余平方米,员工150人以上,其中博士生5人,高级研发工程师近40余人,售后服务25余人。 为适应国内外市场对等离子体表面处理工艺的需求,东信高科等离子事业部联合德国等离孑体硏究所,中囯等离子硏究所,囯内外科硏机构,投入相当大的硏发成本,先后硏发岀了等离子清洗机、等离子刻蚀机、等离子去胶机、等离子表面处理设备、电浆清洗机及常压等离子打磨、抛光系统等。目前产品广泛服努于包装、塑料制品、通讯、汽车、家电、光电、纺织、半导体及精密制造行业在表面涂装、表面粘接、表面清洁方面尤为突岀。通过多年的市场实践及等离子新技术研究和应用,成功的推动了我国低温等离子技术在等离子体尘埃、晶体、材料合成、微米纳米技术、化工、环保、表面聚合、表面接枝、表面刻蚀、表面催化、金属渗氮、化学合成和和气、液、固态物质的处理方面的发展。 凭借公司的强大研发实力,东信高科已成功申请多项技术。目前经过近二十年的发展,公司产品先后经过了四次升级换代,公司先后与富士康公司、美国AAC集团、爱普生电子、中国兵器集团、、中国、、东南大学光电实验室、蓝思科技、长方照明、欧菲光科技、伯恩光学、信利光电、德昌电机、深圳比亚迪股份、大疆创新、国显科技、吉利汽车等世界企业和硏究单位达成战略合作协议,成为上述企业和单位的设备供应商。公司秉承诚信、拼搏、创新的精神理念,以人为本、高效服务的经营理念,立足中国,面向,打造的等离子表面处理设备供应商和服务商!

详细信息

产品介绍

名称

真空等离子清洗机

型号

TS-PL150MA

外形尺寸(W×H×D)

1200×1100×1730(mm)

反应腔尺寸(W×H×D)

500×500×600(mm)

真空腔体材料

进口316不锈钢

真空泵

双级组合泵

角阀

北仪 超真空40KF

流量控制器及显示仪

0-800ml/min

真空显示规管及读取器

Pirani

射频电源

美国品牌 40KHZ、 13.56MHZ 、2.45GHZ

PLC系统

三菱(包括PLC,A/D模组两组,D/A模块两组,温度模块)

电气系统

施耐德

变频器

西门子2KW

触摸屏

中国台湾威纶真彩10寸

陶瓷封装

进口高频陶瓷

处理气体

O2、Ar2、N2,H2、CF4

等离子清洗机,英文叫(Plasma Cleaner)又称等离子体清洗机,等离子清洗器,等离子清洗仪,等离子刻蚀机,等离子表面处理机,电浆清洗机,plasma清洗机,等离子去胶机,等离子清洗设备。适合各种基片、粉体或颗粒状材料的等离子表面改性处理,包括:等离子清洗、活化、刻蚀、沉积、接枝与聚合等。

真空等离子清洗机简介

TS系列低温等离子表面处理设备-低压(真空)等离子清洗机由真空腔体及高频等离子电源、抽真空系统、充气系统、自动控制系统等部分组成。工作基本原理是在真空状态下,等离子作用在控制和定性方法下能够电离气体,利用真空泵将工作室进行抽真空达到0.02-0.03mbar 的真空度,再在高频发生器作用下,将气体进行电离,形成等离子体(物质第四态)。高频发生器提供能量使气体电离成等离子态。等离子态显著的特点是高均匀性辉光放电,根据不同气体发出从蓝色到深紫色的色彩可见光,材料处理温度接近室温。这些高度活跃微粒子和处理的表面发生作用,得到了表面亲水性、拒水性、低摩擦、高度清洁、激活、蚀刻等各种表面改性。

真空等离子清洗机整个清洗过程大致如下:1)被清洗的工件送入真空式并加以固定,启动运行装置,开始排气,使真空室内的真空程度达到10Pa左右的标准真空度。一般排气时间大约需要几分钟。2)向真空室内引入等离子清洗用的气体,并保持腔内压强稳定。根据清洗材质的不同,可分别使用氧气、氩气、氢气、氮气、四氟化碳等气体。3)在真空室内的电极与接地装置之间施加高频电压,使气体被击穿,并通过辉光放电而发生等离子化和产生等离子体,让在真空室产生的等离子体笼罩住被处理工件,开始清洗作业,一般清洗处理持续几十秒到几十分钟不等。4)清洗完毕后切断电源,并通过真空泵将气体和气化的污垢抽走排出。

TS-PL150MA真空等离子清洗机产品特点

1.环保技术:等离子体作用过程是气- 固相干式反应 ,不消耗水资源、无需添加化学药剂,对环境无污染。

2.广适性:不分处理对象的基材类型,均可进行处理,如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料都能很好地处理;

3.温度低:接近常温,特别适于高分子材料,比电晕和火焰方法有较长保存时间和较高表面张力。

4.功能强:仅涉及高分子材料浅表面(10 -1000A ),可在保持材料自身特性的同时,赋予其一种或多种新的功能;

5.低成本:装置简单,易操作维修,可连续运行,往往几瓶气体就可以代替数千公斤清洗液,因此清洗成本会大大低于湿法清洗。

6.全过程可控工艺:所有参数可由PLC设置和数据记录,进行质量控制。

7.处理物几何形状无限制:大或小,简单或复杂,部件或纺织品,均可处理。

真空等离子清洗机广泛应用于

等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面改性等场合。通过其处理,能够改善材料表面的润湿能力,使多种材料能够进行涂覆、镀等操作,增强粘合力、键合力,同时去除有机污染物、油污或油脂。

真空等离子清洗机技术特点是:它不分处理对象,可处理不同的基材,无论是金属、半导体、氧化物还是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、据四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高聚物)都可用等离子体很好地处理,因此,特别适合不耐热和不耐溶剂的基底材料。而且还可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分清洗。

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