PI无氧烘箱工艺流程 工业烘箱
PI无氧烘箱工艺流程 工业烘箱

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PI无氧烘箱工艺流程 工业烘箱

型号
参数
加工定制:是 类型:真空
上海隽思实验仪器有限公司

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上海隽思实验仪器有限公司(以下简称“隽思仪器”)是一家专业从事仪器设备研发、生产、销售及服务的企业。主要生产半导体工艺设备、环境模拟仪器设备、线缆试验机、橡塑试验检测设备、黑蒜设备等的高新技术型企业,具有很强的自主开发、设计能力,服务于电子、电力、通讯、环保、农业,建筑,节能等行业;多年来,公司以“真挚的服务、优质的品质”为宗旨,为国内外广大用户提供了周到的售前、售中、售后服务。赢得了国内外客户的*好评,更为我们业务的快速发展奠定了一定的基础。我们的服务也更精益求精,更完善!
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    不断追求技术进步、提升专业服务能力,做一个专业的仪器设备供应商是我们的发展目标。企业内部实施了CRM、ERP项目管理,在产品开发、质量控制、集成供应链、人力资源管理、财务管理等诸多方面取得了长足发展。同时建立了标准化的服务流程,形成了覆盖全国的快速服务网络,以尽心尽责的服务理念和完备的技术得到用户的*称赞。我们将珍视每一次与您合做的机会,以饱满的热情、真诚的服务与您共创灿烂的未来!





详细信息

PI无氧烘箱工艺流程

  PI光刻胶是一种高性能、高精度的光刻胶,被广泛应用于微电子、光电子、MEMS等领域

PI无氧烘箱工艺的必要性

  PI光刻胶的预烘是将其涂覆在衬底上后,在特定温度下进行一段时间的烘千,使PI溶液中的溶剂挥发掉,PI形成一定的网状结构并增强其附着性。无氧烘箱用于半导体/电子/新材料/新能源等行业。BCB、PI、PBO胶固化,LCP新材料、锂电池等产品热处理。

PI无氧烘箱工艺流程要求(参考):

  1. 在低氧状态下使用

  2. 真空加热,升温至1xx℃

  3. 再温至1xx℃(约xh),保温约 30min;

  4. 继续升温至x00℃,视涂层厚度不同加热10-x0min

  5. 保温 约60min;

  6. 降温至100℃以下

PI无氧烘箱性能

温度:室温+50~400℃

氧浓度:≤10ppm 

真空度:1Torr

冷却装置:辅助降温

控制方式:可程式运行



  无氧烘箱,真空无氧烘箱,无尘烘箱,HMDS烘箱,硅烷蒸镀机,无尘无氧烘箱,氮气烘箱,鼓风真空烘箱,超低温试验箱,快温变试验箱,恒温恒湿试验箱,高低温冲击试验箱等设备,以及非标定制。---上海隽思仪器专业生产/服务!


 PI光刻胶的制备一般采用溶解法或乳化法。溶解法是将PI粉末在氮气气氛下溶于甲醇或丙酮等有机溶剂中,加入一定的表面活性齐并在搅拌和加热条件下使其溶解成为PI溶液。乳化法是将PI颗粒悬浮于水相中,经过乳化剂的加入后与有机相反复振荡,使PI成为均匀的乳状体,最终得到PI乳液。

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