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半导体超纯水设备

型号
参数
产地:国产 水质要求:其他 应用领域:制药,半导体,电子,光电,LED
北京安力斯环境科技股份有限公司

高级会员5年 

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半导体超纯水说明

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TOC超纯水

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半导体超纯水介绍

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半导体超纯水

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管道式紫外消毒设备,中压紫外线杀菌器,模块化臭氧发生器,滤布滤池,赛博集装箱一体化污水处理设备,高级氧化系统

   

     北京安力斯环境科技股份有限公司是一家专业提供水环境治理设备和解决方案的环保科技公司。2005年,公司总部及研发中心设立在北京,2009年在天津成立子公司并落成三万平米的生产基地, 2015年12月长沙分公司成立,2020年4月成都子公司成立。

     拥有一支包括海外归国人才、博士、硕士的高素质研发队伍,公司致力于为市政供排水、村镇供排水、工业、商业水处理客户提供紫外消毒、氧化及高级氧化、SATBR赛博生化工艺、滤布滤池的创新产品及技术服务。利用自身技术特点,在我司能提供有竞争力综合解决方案的项目中,有选择性的与客户进行PPP、BOT、ROT、BT等合作。

     2019年,安力斯被评为工信部符合“环保装备制造业行业规范条件”企业

 

 

二、制造能力

我 们 的 宗 旨:专业+品质+服务=客户的满意

我们的服务承诺:用我们百分的努力赢得客户99.9%的满意度

我们的专业技术:引进美国前沿的技术及20年的专业背景,在国内我们有高技术人才、专业的检测设备及同步技术规范、标准。

我们的产品品质:我们专注于对产品的研发及不断的完善,而每一件产品都是根据Onyx的要求设计生产的,Onyx的管理体系,保证每一产品的优良品质。

 

 

详细信息

 半导体超纯水设备在半导体生产中主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良,重金属(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力,III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化,V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。细菌高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片,导致器件性能下降。水中的颗粒,包括细菌,如果附着在硅片表面,会导致短路或性能恶化。可见,超纯水在半导体行业的必要性。

 

  随着半导体工业的不断发展,对清洁水的电导率、离子含量、TOC、do和颗粒物的要求越来越严格。由于超纯水在许多指标上对半导体的要求很高,因此半导体行业的超纯水与其他行业的用水要求不同。半导体行业对超纯水有严格的水质要求。目前,半导体所用的超纯水需要达到的水质标准为:我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准),我国电子工业部高纯水水质试行标准,国内外大规模集成电路水质标准等。

产品介绍:

Onyx的EX-UPW-TOC产品主要由高透185nm的紫外灯管,高输出石英套管,内外电解抛光的一体化紫外反应器,高度精确的UV强度传感器及智能自控系统组成。

185nmUV主要用于生产超纯水过程中去除TOC有机物,降低TOC出水指标,使出水满足美国ASTM超纯水水质标准及电子工业部电子级水水质标准。

 

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电子级水UV-TOC控制系统

 半导体超纯水设备产品规格:

处理水量

2~60m3/h

灯管配置

12~48支

灯管类型

85w/155w(185/254nm双波段)

石英套管

T>80%@185nm

镇流器

50~100%输出功率可调

反应器材质

316L

洁净等级

内外电解抛光、表面光洁度10以上(≤Ra0.2)

法兰尺寸

DN50~DN200

额定压力

PN10

控制柜等级

IP55,碳钢喷塑

控制系统

本地/远程、触摸屏、连接SCADA系统

UV强度传感器

分辨率0.01mw/cm2

 

 

 


 

 

 

 

集成电路超纯水应用领域:

1. 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路板

2. 电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

3. 电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

4. 黑白显像管荧光屏的生产、波壳清洗、沉淀、洗膜、管颈清洗

5. 液晶显示器的生产、屏面清洗

6. 集成电路生产中高纯水清洗硅片

7. LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏的生产

 

 

 

 

 

 

 

 

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产地 国产
水质要求 其他
应用领域 制药,半导体,电子,光电,LED
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