标题：供应德国Heidelberg Instruments刻蚀机 DWL 2000 GS系列

德国Heidelberg Instruments刻蚀机公司介绍：

德国Heidelberg 刻蚀机海德堡仪器是设计、开发和制造高精度激光光刻系统、无掩模对准器和纳米加工工具的世界领导*。凭借超过 35 年的经验和在*球安装的 1,300 多套系统， 海德堡仪器 提供专门定制的光刻解决方案，以满足我们**客户的微加工和纳米加工要求 - 无论多么具有挑战性。在我们位于德国、瑞士和中国的过程和应用实验室 (PAL) 中，工程师们对我们的客户进行培训并与他们密切合作，以充分利用他们的海德堡仪器设备。 行业利益相关者，以及世界各地最的大学和研究机构的工作组，都使用海德堡仪器的系统进行的微米和纳米图案化。应用领域包括微光学和微系统技术、光子学、电子学、半导体/封装、量子计算、MEMS/NEMS、微机械学、生物医学工程、二维材料、物联网等等。 

Heidelberg Instruments刻蚀机介绍：

德国Heidelberg 刻蚀机DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系统是快速灵活的高分辨率图案生成器。它们针对工业级灰度光刻进行了优化，专为集成电路、MEMS、微光学和微流体设备、传感器、全息图以及**特征的掩模和晶圆的高通量图案化而设计。专业灰度光刻模式可以在大面积厚光刻胶中形成复杂的 2.5D 结构图案。DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 系统具有 500 nm 的最小特征尺寸、高达 400 x 400 mm 2的写入区域和可选的自动加载系统，特别适用于用于电信、照明的晶圆级微光学器件和工业显示器制造，以及生命科学中的设备制造。

Heidelberg Instruments刻蚀机功能参数特点：

²  曝光质量

²  CD 均匀性 60 nm；边缘粗糙度 40 纳米；对准精度 60 nm；第二层对准 250 nm；自动对焦补偿 80 µm

²  灰度光刻

²  1000级灰度；专用 GenISys BEAMER 软件，用于优化复杂几何形状的曝光

²  温控流动箱

²  温度稳定性 ± 0.1°，ISO 4 环境

²  曝*速度

²  灰度模式下 200 x 200 mm 2 的面积<60 分钟

²  基板尺寸大

²  高达 20 / 40 厘米

Heidelberg Instruments刻蚀机应用：

²  微光学

²  材料科学

²  微流体等

Heidelberg Instruments刻蚀机主要型号：

²  DWL 2000 GS 系列

²  DWL 4000 GS 系列