ESCALAB XI+ X 射线光电子能谱仪

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ESCALAB XI+ X 射线光电子能谱仪

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禹重科技(UZONGLAB)是一家立足华东,以拓展全国市场为主的进口仪器贸易和技术咨询服务公司,下设三个事业部和一个中心,即分析仪器事业部、标耗备件事业部、大客户项目部、以及中禹联重检测技术中心。   作为Thermo Science(赛默飞)、ZEISS(蔡司)、 Zwick(兹维克)和INNOVATEST(轶诺)品牌的核心代理商,禹重科技?(UZONGLAB)将*的分析测试前沿技术和产品带给国内客户,为高校、科研院所、政府机构以及材质工业过程控制等行业,提供金属和非金属材料的成分分析仪器、表面分析仪器、硬度和力学设备以及样品前处理平台等仪器产品,同时提供标准样品和小型试验设备销售、材料测试咨询等综合服务。   从冶金铸造和功能材料的开发;船舶建造和石化装备升级换代;到汽车零部件和电子电工的可靠性测试;环境检测和工业品品质的不断提升,禹重科技?(UZONGLAB)在这些方面都发挥着实实在在的作用。   我们具备丰富的经验,充分了解每个客户的核心需求,并致力于提供Z佳的解决方案。为客户提供更专业、更安全、更便捷的产品和服务是我们的*目标。

详细信息

Thermo Fisher Scientific ESCALAB Xi+是**研发出的一款基于ESCALAB 250Xi产品后,具有可扩展功能、多种分析技术集成化的测试手段。该产品通过的灵活性、完备的专业配置选项、直观的软件操作以及硬件配置,带给用户的是*****的的实验结果和生产力。强大的Avantage数据系统提供系统控制、数据采集、数据处理与系统运行报告等一站式服务。
入围**新品获奖理由:
***的成像探测器设计,用于定量XPI成像: 电子倍增器和电阻阳极探测器的双探测器设计,可实现高性能的XPS采谱和高空间分辨的XPS成像的需求。空间连续的电阻阳极探测器创新技术,一方面使得XPI成像分辨率达1um,另一方面使得XPI成像得到数据无探测器背底特征,无需背底校正,直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像结果。 可选配的EDS探测器,实现体相分析技术和表面分析技术的结合: 新设计Xi+系统可选配EDS探测器与俄歇电子*结合,可实现样品纳米尺度的体相微区元素成分分析,EDS可探测微米深度的元素组成,可以用于材料深度剖析前的元素组成预判。体相敏感的EDS技术和XPS表面分析技术的结合可更直观地用于研究合金等的表面偏析行为。 标配的反射电子能量损失谱REELS分析技术,用于弥补UPS能带分析和XPS元素分析: REELS可以探测材料的能级和带隙结果,并可用于材料中H元素含量的定量。与UPS技术结合可了解完整的价带导带信息,并弥补XPS、AES等技术不能检测H元素含量的缺陷 发展的系列基于Xi+的成熟准原位样品处理、制备、反应系统: 基于Xi+,设计的一系列成熟的ALD、MBE样品制备系统,高温高压催化还原反应系统和样品退火系统,满足不同的科研项目需求。

性能特点

配备为提供** XPS 性能而设计的单色化X射线源,确保ESCALAB Xi+ X 射线光电子能谱仪 (XPS) 微探针有**的样品测试通量。多技术能力、一系列灵活的样品制备室及样品处理设备,使该仪器在解决任何表面分析问题时都能游刃有余。利用*的 Avantage 数据采集和处理系统,从测试数据中挖掘尽可能多的信息。

ESCALAB Xi+ X 射线光电子能谱仪 (XPS) 微探针的特点:

高灵敏度能谱
小面积 XPS
深度剖析能力
角分辨 XPS
标配离子散射能谱 (ISS)功能
标配反射电子能量损失谱 (REELS)功能
标配“样品预处理”室
多技术分析的多功能性
多个样品制备技术可选
全自动无人值守式分析
多样品分析
单色化X射线源

双晶体微聚焦单色器配备一个 500 mm 直径的罗兰圆,使用铝阳极靶
样品 X 射线光斑尺寸可选择范围为 200 至 900 μm
透镜、分析仪和检测器

透镜/分析器/检测器一体化使 ESCALAB 250Xi XPS 能谱仪同时具备成像和小面积 XPS 分析能力的性
两种类型的检测器可以确保为每种分析提供**检测——二维检测器用于成像,基于通道电子倍增器的检测器则用于需要检测高计数率的能谱分析
透镜配备了两种电脑控制的光阑组件,一套视场光阑用于控制低至 <20 μm 的分析区域,适用于小面积分析;另一套光阑则用于控制透镜的接收角,对于高质量角分辨 XPS 至关重要
180° 半球型能量分析器
深度剖析

数控式 EX06 离子*是一款高性能的离子源,哪怕在使用低能离子源时也有着很好的性能
提供方位角样品旋转
多技术能力

可配备其他分析技术而不降低 XPS 检测性能
使用 EX06 离子*时透镜组和能量分析仪的电源可反向(确保离子散射能谱 (ISS) 可用)
电子*可加压升至 1000 V,为 REELS 提供优异的离子源
技术选项

非单色化 X 射线光源的XPS分析
AES(俄歇电子能谱)
UPS(紫外光电子能谱)
真空系统

5 mm 厚高导磁金属分析室,****提高磁屏蔽效率
与使用内部或外部屏蔽的方法相比,屏蔽效能更佳
样品制备

系统标配一体化的快速进样室和制备室
额外的制备室可选
Avantage 数据系统

集成了测试分析的所有方面,包括仪器控制、数据采集、数据处理和报告生成
允许远程控制,并且可轻松与第三方软件交互(例如 Microsoft Word)
管理从样品载入到报告导出的整个分析过程

应用领域

催化
化工
半导体
微电子
薄膜
太阳能
金属
纳米材料
玻璃
高分子
生物材料

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