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透反射光谱测量系统
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近红外全角度透反射测量系统,900-2500nm,应用于材料测量领域
样品材料中的很多成份,当光束以不同的角度入射时,得到的透射率和反射率会因入射角度的变化而变化。通过测量不同角度入射,可获取材料在正入射时所得不到的信息,确定材料的最敏感角度,可以为进一步的研究或设计测量仪器提供依据。
我们提供可见-近红外全角度透反射测量系统搭配光谱仪和其他测量附件,可以实现光源的不同角度入射和接收,适用于mm量级样品的透射光谱测量及反射光谱测量。透反射光谱测量系统采用电控独立双轴设计,配备高精度步进电机,控制发射端和接收端的角度测量,角分辨率达0.001°,重复精度达0.05°。光谱范围覆盖900-2500nm,通过软件控制发射端和接收端的角度,实现快速的光谱测量,可用于透射/反射/散射/荧光/辐射等多种全角度模式的光谱测量。
主要特点:
-全角度测量:反射和透射,可以实现-90°至90°范围测量,散射、荧光和辐射,可以实现0°至180°测量。
-多种角度测量模式:可以进行反射、透射、荧光、散射辐射等多种光谱测量
-精确角度控制:高精度电机,角度精度达0.05°
-多维调节样品台:样品台由高精度三维位移台和三维旋转台组成,可实现样品的6维调节
技术参数:
产品名称 | 近红外全角度透反射测量系统 |
产品型号 | XPNIR-RTM-A1 |
光谱范围 | 900-2500nm |
有效像素 | 512 |
信噪比 | >10000:1@100ms integration |
测量时间 | 小于1秒 |
检测器 | 带制冷,可制冷至-20℃ |
光源光谱范围 | 350-2500nm |
光源功率 | 100W |
光锥半角 | 3° |
入射范围 | -90°-90° |
出射范围 | 0-360° |
最小步距 | 0.005° |
重复精度 | 0.05° |
测量模式 | 反射测量、透射测量、散射测量、荧光测量、辐射测量等 |
样品台 | 高精度三维位移台加三维旋转台 |
-快速测量:快速对样品实现多种角度模式的光谱测量
-可选配件多样:根据客户的不同测量应用,可以选择不同的光源、滤光片、偏振片等配件完成不同的测量应用
多种全角度测量模式:
光谱角度测量模式:
反射式角度测量模式:镜面样品的反射夹角0°~180°,实现光谱的全角度测量。
透射式角度测量模式:入射角-90°~90°,接收角和入射角成180°(同一直线),实现透射光谱的全角度测量。
散射和荧光角度测量模式:入射角-90°~90°的任意角度上变化,接收角0°~360°范围内变化,实现散射和荧光光谱的全角度测量。
辐射角度测量模式:接收角0~360°范围内变化。
主要应用:
-纳米光学材料
-材料镀膜
-光子晶体器件
-传感器器件制备
-LED光源
-液晶显示
-角度相关材料分析