纳米表面轮廓仪

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纳米表面轮廓仪

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上海昊量光电设备有限公司是目前国内光电产品专业代理商,也是近年来发展迅速的光电代理企业。除了拥有一批专业技术销售工程师之外,还有拥有一支强大技术支持队伍。我们的技术支持团队可以为客户提供完整的设备安装,培训,硬件开发,软件开发,系统集成等工作。不但为客户提供适合的产品,而且为客户提供完善的服务是我们始终秉承的理念!

自2008年成立以来,昊量光电专注于光电领域的技术服务与产品经销,致力于引进国外很具*性与创新性的光电技术与可靠产品,为国内前沿的科研与工业领域提供优质的产品与服务,助力中国智造与中国创造! 目前,昊量光电已经与来自美国、欧洲、日本的多家光电产品制造商建立了紧密的合作关系。其代理品牌均处于相关领域的发展前沿,产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等,所涉足的领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究与国防等。

昊量光电坚持“专业源自专注,专注成就未来”的经营理念。近年来,我们专注于前沿的细分市场,为量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、*激光制造等领域的客户提供系统解决方案。

秉承诚信、高效、创新、共赢的核心价值观,昊量光电坚持以诚信为基石,凭借高效的运营机制和勇于创新的探索精神为我们的客户与与合作伙伴不断创造价值,实现各方共赢!

立足于光电产业,昊量光电始终坚持价值创造与创新,赢得客户与合作伙伴的认可,不断拓展业务领域的新边疆,立志打造国际的代理服务品牌!

详细信息

纳米表面轮廓仪

IMOS纳米表面轮廓仪实现了精确、定量、iso兼容、非接触式表面测量和表征微和纳米尺度的表面特征,在短短几秒钟内可捕获多达200万个数据点。选择正确的光学轮廓仪系统取决于您的应用程序的要求,包括速度、精度、垂直范围、自动化和灵活性。

IMOS光学表面轮廓仪在非接触式光学表面轮廓方面提供了强大的通用性。有了该系统,它可以方便快捷地测量各种表面类型,包括光滑、粗糙、平坦、倾斜和阶梯。所有的测量都是无损的,快速的,不需要特殊的样品准备。纳米表面轮廓仪系统的核心是部分相干光干涉技术,它提供亚纳米精度测量更广泛的表面比其他商业可用技术。


IMOS 纳米表面轮廓仪提供了不同的应用程序的特殊价值,如平直,粗糙度,波浪形,台阶高度等等。
IMOS 纳米表面轮廓仪配备了一个头,可以填充离散变焦光学定制的系统。样本分段配置范围从自动化到自动化的编码行程。

IMOS 纳米表面轮廓仪提供高精度测量,易于使用,快速测量,及吸引力的价格,使其成为多功能3D光学轮廓仪的理想选择。


主要优点:

  • 纳米模式下的Z轴分辨率:

           ~ 30pm微起伏模式(使用原子级光滑镜)

             ~ 0.3um微地貌模式下

  • 外形紧凑;

  • 快速响应;

  • 抗外部振动;

  • 测量过程自动化程度高;

  • 特殊的用户友好的界面;

  • 高质量的图形界面,以工作与多计划三维表示的测量结果;

  • 广泛的可能性配置的显微镜,以各种形态-逻辑的测量表面;

  • 能够工作在两种模式:微浮雕和纳米浮雕;

  • 的存储系统和测量结果的系统化。


在硅基板上的Pd薄膜,高度100nm硅晶体表面的阶地,高度为0.314nm在硅基板上的Pd薄膜,高度100nm

微起伏模式下的测量结果

IMOS纳米表面轮廓仪组成 

                    光电探测器*
矩形-1392*1040 px
光源 * 
LED (λeff = 630 nm)
显微物镜*
20x (or 10x, 5x) 2 items
放大率不变
                                     扫描

位移台


  • 1d (Z) range 50 mm 

  • 2d (XY) range 75x50 mm


控制器
  • CCD-相机抓帧器

  • 位移台控制器

  • 设备控制器 

硅晶体表面的阶地,高度为0.314nm   
                                       计算机 
软件
  • Software for working with IMOS

  • System / MS Windows

 
认证口径,标称高度值为101nm±3%
* – 按客户需求 


微地貌模式下的测量结果

技术指标

                             测量区域 
0,4x0,3 mm2 (for 20X
像素尺寸 
0,3 μm (for 20X
横向分辨率
Not worse 1 μm 
测量模式 
  • 微地貌模式

  • 微起伏模式 

认证口径, 厚 40 ± 1,2 μm   
                            Z轴分辨率
  • 微地貌模式 ~ 0,3 μm

  • 微起伏模式 ~ 30 pm (with atomically smoth mirror) 

测量范围 
  • 微地貌模式 up to 50 mm

  • 微起伏模式 up to 20 μm 

测量速度 
  • 微地貌模式 ~ 4 μm/s

  • 微起伏模式 ~ 20 μm/10s 

衍射元件, 厚 3,7 μm   



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