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石墨烯CVD制备设备
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上海昊量光电设备有限公司是目前国内光电产品专业代理商，也是近年来发展迅速的光电代理企业。除了拥有一批专业技术销售工程师之外，还有拥有一支强大技术支持队伍。我们的技术支持团队可以为客户提供完整的设备安装，培训，硬件开发，软件开发，系统集成等工作。不但为客户提供适合的产品，而且为客户提供完善的服务是我们始终秉承的理念！
自2008年成立以来，昊量光电专注于光电领域的技术服务与产品经销，致力于引进国外很具*性与创新性的光电技术与可靠产品，为国内前沿的科研与工业领域提供优质的产品与服务，助力中国智造与中国创造! 目前，昊量光电已经与来自美国、欧洲、日本的多家光电产品制造商建立了紧密的合作关系。其代理品牌均处于相关领域的发展前沿，产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、精密光学元件等，所涉足的领域涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究与国防等。
昊量光电坚持“专业源自专注，专注成就未来”的经营理念。近年来，我们专注于前沿的细分市场，为量子光学、生物显微、物联传感、精密加工、*激光制造等领域的客户提供系统解决方案。
秉承诚信、高效、创新、共赢的核心价值观，昊量光电坚持以诚信为基石，凭借高效的运营机制和勇于创新的探索精神为我们的客户与与合作伙伴不断创造价值，实现各方共赢！
立足于光电产业，昊量光电始终坚持价值创造与创新，赢得客户与合作伙伴的认可，不断拓展业务领域的新边疆，立志打造国际的代理服务品牌！
详细信息
石墨烯CVD制备设备
这款配置的低真空CVD系统由1200℃真空管式炉,3通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产有双温区、三温区、多温区),石墨烯CVD制备设备可预抽真空(有高真空、低真空),通多种气氛(供气系统有质子流量控制器和浮子流量控制器〕。真空泵、阀均釆用进口设备,性能可靠。控制电跻选用模糊PD程控技术,石墨烯CVD制备设备具有控温精度髙,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作等特点。CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等。
石墨烯CVD制备设备技术参数:
1200双温区加热炉
电压 AC220V 50/60Hz
功率 4.5KW 双温控
Max温度 1150 °C
工作温度 ≤ 1100 °C
升温速率 ≤ 15°C/min
温控系统 PID自动控制晶闸管（可控硅）输出功率，30段可编程控制器
恒温精度 ±1°C
石英管 25/50/60/80*1400mm
三路质量流量控制系统
MAX电压 185~245V/50Hz
MAX输出功率 18W
流量计标准量程 50，100，200，500SCCM（非特殊以氮气标定，量程可选定）
工作温度 5~45 °C
工作压差 0.1~0.5 MPa
MAX压力 3MPa
准确度 ±1.5%FS
低真空系统
采用双极旋片真空泵
不锈钢充油真空压力表，良好的抗震性
安装过滤器
内置测温系统
测温元件可从加热区边缘延申至温区中心法兰密封，保证炉管的密封性测温元件，N型热电偶
法兰及支撑
304不锈钢快速水冷法兰，长期水冷无腐蚀，一个卡箍就能完成法兰的连接，放取物料方便快捷可调节法兰的支撑，平衡炉管的受力支撑。包含进气，出气，真空抽口针阀，KF密封圈及卡箍组合，4个密封硅胶圈等。
石墨烯CVD制备设备可选配件
混气系统，中，高真空系统，各种刚玉坩埚，石英管，计算机控制软件，无纸记录仪，氧含量分析仪，冷却水循环机。
