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后曝光氮气烘箱，PEB无尘烘箱
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上海隽思实验仪器有限公司（以下简称“隽思仪器”）是一家专业从事仪器设备研发、生产、销售及服务的企业。主要生产半导体工艺设备、环境模拟仪器设备、线缆试验机、橡塑试验检测设备、黑蒜设备等的高新技术型企业，具有很强的自主开发、设计能力,服务于电子、电力、通讯、环保、农业，建筑，节能等行业；多年来，公司以“真挚的服务、优质的品质”为宗旨，为国内外广大用户提供了周到的售前、售中、售后服务。赢得了国内外客户的*好评，更为我们业务的快速发展奠定了一定的基础。我们的服务也更精益求精，更完善！
隽思仪器主要业务有HMDS预处理系统，HMDS烘箱，洁净烤箱，百级洁净烘箱，氮气烘箱，高温无氧烘箱，真空无氧烘箱，无尘无氧化烘箱，抗粘剂涂胶机，精密恒温加热台，快速高低温气流仪，超低温试验箱，高低温试验箱，高低温交变湿热箱定做，HMDS真空涂胶烘箱，低温脆性检测仪，黑蒜发酵设备，导体直流电阻测试仪，电线电缆检测仪器，真空烘箱，黑蒜试验机，橡塑检测试验机等。
不断追求技术进步、提升专业服务能力，做一个专业的仪器设备供应商是我们的发展目标。企业内部实施了CRM、ERP项目管理，在产品开发、质量控制、集成供应链、人力资源管理、财务管理等诸多方面取得了长足发展。同时建立了标准化的服务流程，形成了覆盖全国的快速服务网络，以尽心尽责的服务理念和完备的技术得到用户的*称赞。我们将珍视每一次与您合做的机会，以饱满的热情、真诚的服务与您共创灿烂的未来！
详细信息
后曝光氮气烘箱，PEB无尘烘箱应用工艺
无尘烘箱所使用的高温（100-130°C）会使光敏化合物扩散，从而消除驻波波纹.百级洁净度无尘化，专用于半导体，集成电路。
一种减少驻波效应的方法称为后曝光烘烤（PEB）。所使用的高温（100-130°C）会使光敏化合物扩散，从而消除驻波波纹。重要的是要注意，高温对光刻胶的有害影响，如上所述的PAB，也适用于PEB。因此，优化烘烤条件变得非常重要。此外，曝光产物的扩散速率取决于PAB条件-存在溶剂可以增强PEB过程中的扩散。因此，低温后曝光烘烤可以在给定的PEB温度下产生更大的扩散。
对于常规光刻胶，PEB的主要意义在于消除驻波的扩散。对于另一类称为化学增强光刻胶的光刻胶，PEB是产生曝光和未曝光部分光刻胶可溶解度差异的化学反应的必要组成部分。对于这些光刻胶，曝光产生一小部分强酸，它本身不会改变光刻胶的溶解度。在后曝光烘烤期间，这种光产生的酸催化了一种反应，改变了光刻胶中聚合物树脂的溶解度。对于化学增强光刻胶，PEB的控制非常关键。
后曝光氮气烘箱，PEB无尘烘箱性能
洁净度：Class100;
温度：RT+15～300℃；
工艺气体：N2
计时功能：0-99H99M99S
设备材质：内部SUS304不锈钢
工作尺寸（mm）：
450×450×450(4)
500×500×550(6)
600×600×700(8)
（可定制）
网板：活动式2块
无尘烘箱，百级洁净烘箱适用性：
氮气烘箱也适用于IC封装、光刻胶固化、银胶固化、电子液晶显示、LCD、CMOS、MEMS、医药、实验室等生产及科研.
