金靶材镀膜磁控溅射

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金靶材镀膜磁控溅射

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郑州科探仪器设备有限公司

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郑州科探仪器设备有限公司是集开发、制造、经营为一体的材料设备创新型企业,如今公司的产品已经遍布国内大多数实验室 ,科探仪器已经成为老师 同学和信任的品牌。   公司以科技创新为主,服务社会为宗旨,积极设计开发新型材料制备设备,奉献于教育和科学,经过长期的研发和不断地技术积累,拥有热工,制造,控制相关技术项为化学,物理,材料,电子,高分子工程,新材料制备和研发领域的科学研究提供了精良设备。公司通过和院校老师 同学强强联合,形成了有效的信息,技术交流平台,为科探仪器了解市场需求提供了强有力的支持!


    目前公司已研发生产产品十多个系列几十款产品,产品囊括实验电炉   CVD供气系统   等离子清洗机   小型离子溅射仪   小型蒸镀仪  石英管真空封口 真空探针台  半导体等。 主要适用于科研院校及工矿企业在新材料、新能源等领域物理特性及化学特性的研究,广销于各大院校,及材料研究所。


    公司与国内高校,科研院所有多层次的合作关系,建有开放实验室,相关领域的教授、工程师、博士参与公司产品的研究和开发。我们秉承公司的发展理念,依靠严谨的技术研发能力,科学合理的生产工艺,精益求精的制造要求,全心全意做好产品质量和服务工作,科探仪器时刻怀着一颗真诚的心期待与您的合作。


详细信息

金靶材镀膜磁控溅射,7寸人机界面,自动手动模式切换控制,功率1000w直流磁控溅射

单靶直流磁控溅射镀膜仪可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该单靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等

单靶直流磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备,具有标准化、模块化、可定制化的特点。

所配电源为1000W大功率直流电源,可用于高能量的金属溅射镀膜,根据实验需求也可以选配其他规格的直流或者射频电源来实现各种材料的镀膜操作。

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金靶材镀膜磁控溅射技术参数;

控制方式

7寸人机界面 手动 自动模式切换控制

溅射电源

直流溅射电源

镀膜功能

0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序

功率

≤1000W

输出电压电流

电压≤1000V  电流≤1A

真空

机械泵 ≤5Pa(5分钟)   分子泵≤5*10^-3Pa

溅射真空

≤30Pa

挡板类型

电控

真空腔室

不锈钢腔体φ160mm x 170mm

样品台

可旋转φ62  (可安装φ50基底)

样品台转速

8转/分钟

样品溅射源调节距离

40-105mm

真空测量

皮拉尼真空计(已安装 测量范围10E5Pa  1E-1Pa)

预留真空接口

KF25抽气口    KF16放气口   6mm卡套进气口





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