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CMP-4金相试样单盘自动磨抛机
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CMP-4型自动磨抛机为双单台式磨抛机,跟据国际标准,采用国际工艺技术,研发制造一款单点加力的新型研磨抛光设备。(无电子比例阀,手动调压)
具备磨抛盘旋转方向可任意选择、磨抛盘可快速更换;多试样夹试器,同事具体气动单点加载功能。本机采用了微处理器控制系统,使得磨抛盘、磨抛头的转速实现无级可调,制样压力、时间设定直观、便捷。只需更换磨抛盘或者砂纸和织物即可完成磨、抛工序的操作。从而使本机展现了更加广泛的应用性。具有转动平稳、安全可靠、噪音低及采用铸铝底座增加了磨抛的刚性等特点。
本机磨头电磁锁自动落锁功能,安全便捷。带有水冷却装置,可以在研磨时对试样进行冷却,以防止因试样过热而破坏金相组织并随时将磨粒冲刷排走;再配以玻璃钢外壳和不锈钢标准件,在外观上更加美观大方,并提高了防腐、防锈性能且易清洁。
适用于对金相试样的粗磨、精磨、粗抛光至精抛光过程进行自动制样。是企业、科研单位以及大专院校实验室的理想制样设备。
主要技术指标:
磨抛盘直径:φ250mm(可订制φ230mm、φ300mm)
磨抛盘转速:50-1000 r/min(无极调速)以及300 / 600 / 900 r/min(3级定速)
磨抛盘转向:可调正反转选择
磨抛头转速:5-150 r/min(无极调速)
制备样数量:4个
输入气源:0.4-0.7Mpa
制 样 时间:0-3000 S
制样压力:单点20-70N 中心0-300N
试 样 直径:出厂标配φ30mm(可订制直径φ22-φ45mm)
输 入 电压:单相 AC220V 50Hz
输 入 功率:1.1KW
外 形 尺寸:550*760*640mm
净 重:60KG