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ICP干法等离子刻蚀机
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上海沛沅仪器设备有限公司专业从事等离子体应用技术研究开发和相关设备、产品的生产，并致力于等离子体应用技术的市场推进和产业化。公司由长期从事等离子体应用技术研究开发、多次参与国家重大科学工程研究的专家和产业化专家联合创建，核心团队来自中科院应用物理研究所、中国科技大学、上海科技大学,美国橡树岭实验室归国博士等科研机构。公司拥有一批等离子体应用技术方面的专家，建立起一支经验丰富的融合了等离子体技术、电气自控技术、机械设计加工和成套工程技术的精英团队。将团队本身科研技术植入到公司产品之中,拓展产品功能,提升产品性能和开发新的应用领域。公司在等离子体领域已经积累了一整套具有自主知识产权的系列产品和技术，在国内居地位，并已与国内外众多家大学、科研机构和企业等用户有着密切的合作关系。公司的愿景是成为等离子体应用领域的优质供应企业，用科研的沉淀和应用的创新，为中国的制造业崛起和化战略尽自己的义务和责任。
详细信息
产品特点● 4/6/8英寸兼容，单片晶圆真空传输系统
● 低成本高可靠，适合研发及小规模生产
● 设备结构简单，外形小
● 操作简便、便于自动控制、适合大面积基片刻蚀
● 优异的刻蚀均匀性，刻蚀速率快
●满足半导体标准的配方驱动及管理软件控制系统
● 选择比高、各向异性高、刻蚀损伤小
● 断面轮廓可控性高，刻蚀表面平整光滑
技术参数晶圆尺寸：4/6/8英寸兼容
适用工艺：等离子体刻蚀
适用材料：SiC、Si、GaN、GaAs、InP、Ploy，etc.
应用领域适用领域：化合物半导体，MEMS、功率器件、科研等领域
