四氟化硅传感器

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四氟化硅传感器

型号
参数
加工定制:是 输出信号:其他 制作工艺:其他 检测原理:NDIR 检测气体:SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2 量程:1~264ppm(0~200mTorr)
四方光电股份有限公司

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气体传感器,粉尘传感器,粉尘检测仪,粒子计数器,甲烷传感器,可燃气体报警器,二氧化碳传感器,超声波流量计,集成空气品质传感器,燃气表

四方光电股份有限公司(以下简称“四方光电”)是一家从事智能气体传感器和气体分析仪器的科创板上市企业(代码688665)。公司2003年成立于武汉“光谷”,形成了包括光学(红外、紫外、光散射、激光拉曼)、超声波、MEMS金属氧化物半导体 (MOX)、电化学、陶瓷厚膜工艺高温固体电解质等原理的气体传感技术平台,拥有100余项国内外zhuanli,产品广泛应用于空气品质、环境监测、工业过程、安全监测、健康医疗、智慧计量等领域。

四方光电建设有省级企业技术中心和湖北省气体分析仪器仪表工程技术研究中心。同时公司积极融入国家技术创新体系,先后获得国家重大科学仪器设备开发专项、工信部物联网发展专项、工信部强基工程传感器、科技部科技助力经济2020重点专项、湖北省技术创新重大项目等多个项目的支持,被国内外行业机构列为中国气体传感器主要厂商和代表性企业,并荣获中国物联网产业联盟影响力物联网传感企业奖”。

深耕传感器领域21年,四方光电凭借长期的技术沉淀、严格的质量体系及化视野,已经成为诸多世界500强及国内外细分领域头部企业的配套供应商。目前公司产品已经出口至八十多个国家和地区,正在朝着传感器领域的品牌迈进。









详细信息

四氟化硅传感器四氟化硅传感器是由四方光电自主研发的高性能气体传感器,产品基于非分光红外技术(NDIR),能够精确测量半导体等应用中产生的SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等气体,兼容机台内常见预留尺寸、法兰和通讯协议,适合半导体行业化学沉积设备、原子层沉积设备腔室的清洁终点监测。

四氟化硅传感器四氟化硅传感器产品特性

使用NDIR技术,多气体监测支持(SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2等气体)

响应时间快,高灵敏度

无耗材

模拟/数字通信

模块化设计,便于集成


四氟化硅传感器技术参数

检测原理NDIR
检测气体SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2
量程1~264ppm(0~200mTorr)
重复性±0.5%
线性±1%F.S.
检测限1ppm




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产品参数

加工定制
输出信号 其他
制作工艺 其他
检测原理 NDIR
检测气体 SiF4、WF6、CF4、SF6、NF3、CO2
量程 1~264ppm(0~200mTorr)
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