图像翻转烘箱,光刻图形反转设备
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图像翻转烘箱,光刻图形反转设备

型号
参数
产地:国产
上海隽思实验仪器有限公司

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上海隽思实验仪器有限公司(以下简称“隽思仪器”)是一家专业从事仪器设备研发、生产、销售及服务的企业。主要生产半导体工艺设备、环境模拟仪器设备、线缆试验机、橡塑试验检测设备、黑蒜设备等的高新技术型企业,具有很强的自主开发、设计能力,服务于电子、电力、通讯、环保、农业,建筑,节能等行业;多年来,公司以“真挚的服务、优质的品质”为宗旨,为国内外广大用户提供了周到的售前、售中、售后服务。赢得了国内外客户的*好评,更为我们业务的快速发展奠定了一定的基础。我们的服务也更精益求精,更完善!
 隽思仪器主要业务有HMDS预处理系统,HMDS烘箱,洁净烤箱,百级洁净烘箱,氮气烘箱,高温无氧烘箱,真空无氧烘箱,无尘无氧化烘箱,抗粘剂涂胶机,精密恒温加热台,快速高低温气流仪,超低温试验箱高低温试验箱,高低温交变湿热箱定做,HMDS真空涂胶烘箱,低温脆性检测仪,黑蒜发酵设备,导体直流电阻测试仪,电线电缆检测仪器,真空烘箱,黑蒜试验机,橡塑检测试验机等。
    不断追求技术进步、提升专业服务能力,做一个专业的仪器设备供应商是我们的发展目标。企业内部实施了CRM、ERP项目管理,在产品开发、质量控制、集成供应链、人力资源管理、财务管理等诸多方面取得了长足发展。同时建立了标准化的服务流程,形成了覆盖全国的快速服务网络,以尽心尽责的服务理念和完备的技术得到用户的*称赞。我们将珍视每一次与您合做的机会,以饱满的热情、真诚的服务与您共创灿烂的未来!





详细信息

 图像翻转烘箱,光刻图形反转设备工艺原理:

    光刻图形反转是一种特殊的工艺,用于制作‌半导体器件。在曝光结束后,光刻胶中的图像与想要得到的图像是相反的,即曝光区域在显影后会形成孔洞而不是岛区。这种工艺主要用于制作孔洞结构,通过改变曝光区域和非曝光区域的相对分解率来实现。

图像翻转烘箱,光刻图形反转设备的应用:

    光刻图形反转工艺主要用于剥离过程,特别是在柔性电极、电极的制作以及其他一些MEMS器件工艺中。通过底切侧壁形态,可以防止沉积的材料在光刻胶边缘和侧壁上形成连续薄膜,有助于获得干净的剥离光刻胶结构。

光刻图形反转设备的性能

尺寸(可定制)

内腔尺寸:450宽×450深×450高(mm),外形尺寸:760×750×1500 (mm)

  材质

内箱采用SUS304不锈钢,外箱采用优质冷轧板静电喷塑

温度范围

RT+50-250℃

温度分辨率

0.1℃

温度波动度

≤±1℃

操作模式

人机界面

升温速率

≤5℃/min

气体

2路供气

真空度

0.1~100KPa

电源及总功率 

AC220V±10% / 50HZ       总功率约2.8KW

温度控制器

触摸屏微电脑温控器,可校准温度,PID 自整定等功能

搁板层数

不锈钢托盘2层

真空泵

涡旋干泵

腔门密封圈

采用耐高温硅橡胶密封圈,密封圈采用一体成型无缝加工


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