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详细信息

EPMA-8050G电子探针显微分析仪

“The Grand EPMA” 诞生

搭载zui*场发射电子光学系统
将岛津EPMA分析性能发挥到*

从SEM观察条件到1μA量级，在各种束流条件下都拥有空间分辨率的*场发射电子光学系统。结合岛津传统的高性能X射线谱仪，将分析性能发挥至*。

当之无愧的“The Grand EPMA” ，zui高水准的EPMA诞生！

超高分辨率面分析对碳膜上Sn球放大3万倍进行面分析。即使是SE图像（左侧）上直径只有50nm左右的Sn颗粒，在X射线图像（右侧）上也是清晰可见。

*zui技术实现 ■ 的空间分辨率 EPMA可达到的zui高级别的二次电子图像分辨率3nm（加速电压30kV）分析条件下的二次电子分辨率。（加速电压10kV时20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA） ■ 二次电子图像zui高分辨率3nm** 碳喷镀金颗粒的观察实例。实现zui高分辨率 3nm（@30kV）。相对较高的束流也可将电子束压细聚焦，更加容易的获得高分辨率的SEM图像。	■ 大束流超高灵敏度分析实现3.0μA（加速电压30kV）的zui大束流。全束流范围无需更换物镜光阑。 ■ zui多可同时搭载5通道高性能4英寸X射线谱仪无人可及的52.5°X射线取出角。 4英寸罗兰圆半径兼顾高灵敏度与高分辨率。 zui多可同时搭载5通道相同规格的X射线谱仪。 ■ 全部分析操作简单易懂全部操作仅靠一个鼠标就可进行的*可操作性。追求「易懂」的人性化用户界面。搭载导航模式，自动指引直至生成报告。
超高灵敏度面分析使用1μA束流对不锈钢进行5000倍的面分析。精确地捕捉到了Cr含量轻微不同形成的不同的相（左侧），同时也成功地将含量不足0.1%的Mn分布呈现在我们眼前（右侧）。

实现微区超高灵敏度分析的*技术

1　高亮度肖特基发射体
场发射电子枪采用的肖特基发射体比一般传统SEM使用的发射体针尖直径更大，输出更高。即可以保持其高亮度，还可提供高灵敏度分析*的稳定大电流。

2　 EPMA电子光学系统
电子光学系统，聚光透镜尽可能的接近电子枪一侧，交叉点不是靠聚光透镜形成，而是由安装在与物镜光阑相同位置上，具有独立构成与控制方式的可变光阑透镜来形成交叉点的（日本：第4595778号）。简单的透镜结构，既能获得大束流，同时全部电流条件下设定zui合适的打开角度，将电子束压缩到zui细。当然是不需要更换物镜光阑的。

3　超高真空排气系统
电子枪室、中间室、分析腔体之间分别安装有筛孔（orifice）间隔方式的2级差动排气系统。中间室与分析腔体间的气流孔做到zui小，以控制流入中间室的气体，使电子枪室始终保持着超高真空，确保发射体稳定工作。

4　高灵敏度X射线谱仪
zui多可同时搭载5通道兼顾高灵敏度与高分辨率的4英寸X射线谱仪。52.5°的X射线取出角在提高了X射线信号的空间分辨率的同时，又可减小样品对X射线的吸收，实现高灵敏度的分析。