KWD—100162STH半导体晶片清洗机

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KWD—100162STH半导体晶片清洗机

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碳氢清洗设备

详细信息

产品功能:

采用一套多臂气动机械手传动,定位精准,效率高。

人机界面,PLC程序控制,触摸屏操作。

水系型清洗剂、DI水、IPA清洗干燥。

间接式导热油加热方式,全自动IPA检测、灭火装置。

机架及全封闭外罩HEPA高效空气过滤器,防止二次污染。

采用多种清洗频率清洗设备:40KHz、80KHz、100KHz、120KHz。

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