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JS 精密热板 光刻胶烤胶台 坚膜烘胶台
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上海隽思实验仪器有限公司（以下简称“隽思仪器”）是一家专业从事仪器设备研发、生产、销售及服务的企业。主要生产半导体工艺设备、环境模拟仪器设备、线缆试验机、橡塑试验检测设备、黑蒜设备等的高新技术型企业，具有很强的自主开发、设计能力,服务于电子、电力、通讯、环保、农业，建筑，节能等行业；多年来，公司以“真挚的服务、优质的品质”为宗旨，为国内外广大用户提供了周到的售前、售中、售后服务。赢得了国内外客户的*好评，更为我们业务的快速发展奠定了一定的基础。我们的服务也更精益求精，更完善！
隽思仪器主要业务有HMDS预处理系统，HMDS烘箱，洁净烤箱，百级洁净烘箱，氮气烘箱，高温无氧烘箱，真空无氧烘箱，无尘无氧化烘箱，抗粘剂涂胶机，精密恒温加热台，快速高低温气流仪，超低温试验箱，高低温试验箱，高低温交变湿热箱定做，HMDS真空涂胶烘箱，低温脆性检测仪，黑蒜发酵设备，导体直流电阻测试仪，电线电缆检测仪器，真空烘箱，黑蒜试验机，橡塑检测试验机等。
不断追求技术进步、提升专业服务能力，做一个专业的仪器设备供应商是我们的发展目标。企业内部实施了CRM、ERP项目管理，在产品开发、质量控制、集成供应链、人力资源管理、财务管理等诸多方面取得了长足发展。同时建立了标准化的服务流程，形成了覆盖全国的快速服务网络，以尽心尽责的服务理念和完备的技术得到用户的*称赞。我们将珍视每一次与您合做的机会，以饱满的热情、真诚的服务与您共创灿烂的未来！
详细信息
光刻胶在曝光完成后，光刻胶需要经过再一次烘烤，因为这次烘烤在曝光后，所以称为“曝光后烘烤”，简称后烘或坚膜，英文为Post Exposure Bake（PEB）。
曝光后精密热板 光刻胶烤胶台 坚膜烘胶台PEB烘烤的目的--通过加热的方式，使得光化学反应能够充分完成。
对于酚醛树脂体系的光刻胶，PEB可以扩散感光剂以消除驻波效应。并且，PEB温度不同时，感光剂的扩散距离不同，消除驻波的效果也不一样。PEB在110度时，消除驻波效应明显。
对于化学放大型光刻胶，在后烘过程中，光酸起到催化光刻胶树脂的去保护反应(Deprotection Reaction)，又称为脱保护反应。
大量实验表明，烤胶台烘烤温度的起伏是影响线宽均匀性的主要因素之一。在设置后烘工艺时， 对热盘温度均匀性的要求一般比软烘的要求更高。
精密热板 光刻胶烤胶台 坚膜烘胶台性能
智能型烤胶机
加热尺寸：220*220mm（可定制）,适用于Ø200毫米（8英寸）圆片或200x 200毫米方片以下尺寸产品；
温度范围：RT～300°C
温度精度：0.1°C；
温度均匀性：≤±0.5℃；
电动顶针调节高度: 0～30mm；
加热台表面：耐腐蚀硬质阳极氧化铝制成；
控制器单元：7寸全彩触摸屏，高级PLC控制，实现在指时间内自动升降，可以定时取片；
后烘精密热板 光刻胶烤胶台 PEB烤胶机 坚膜烘胶台用途
精密热板用于固化光刻胶，固化环氧塑脂，掩膜版烘烤，柔性线路检测，穿戴技术传感器校准，可用于显微镜下使用以及其它需要高精度控温的场合等。适用于半导体光刻工艺的前烘和坚膜、电路模块的涂敷烧结和考核等工艺。
