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XT100（M） 四极质谱残余气体分析仪RGA
- 型号
- XT100（M）
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利方达(香港)有限公司于2002年创建。公司目前集中了一批多年从事真空镀膜专业的技术人员和经验丰富的市场销售人员,现已经发展成为由利方达(香港)有限公司,深圳市利方达科技有限公司,利方达科技北京办事处组成的，集真空产品研发,生产及贸易以及维修服务为一体的企业集团 。 我们的业务专长于真空及镀膜设备领域的代理销售业务，致力于把世界上*的技术和设备引进中国.凭借多年的真空专业技术积累, 雄厚的技术力量和真诚的服务, 我们得到了业界的众口称赞,拥有了大量的客户群体, 产品广泛用于真空,光学、电子、半导体、平板显示等相关领域.
详细信息
美国EXTORR公司四极质谱残余气体分析仪（RGA）
特点及应用：
•操作简单
•可靠，方便
•在线原位分析真空环境及工艺气体
•定性或定量分析监测溅射镀膜反应工艺过程中真空室内的气体分压强
•优化工艺过程参数，提高镀膜产品质量
•对真空系统检漏
在工艺中的效果
•改善质量
•提高流片量
•减少停机时间
•改进工艺
•缩小工艺周期
•降低成本
规格：
| 测量气体范围 XT100（M） XT200（M） XT300（M） | 1到100 amu 1到200 amu 1到300 amu |
| 检测类型 | 法拉第杯（FC）或电子倍增器（EM） |
| 灵敏度（A/mbar） | 5×10-4torr，法拉第杯，氮28, 10%峰高 |
| 分辨率 | 1 amu ，10%峰高 |
| zui小可检分压强 | 10-11 torr或10-14 torr（电子倍增器），氮28，10%峰高 |
| 工作范围 | 10-4 torr到超高真空 |
| 工作环境zui高温度 | 40°C |
| 烘烤温度 | 300°C（不包括CCU） |
| 通讯端口 | RS-232C，115,200 Baud |
| 软件运行环境 | Windows® 2000或XP |
