旋转PECVD系统

KJ-T1200-S80-DZPECVD-R旋转PECVD系统

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2022-09-01 17:11:47
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产品简介

产品用途:PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜

详细介绍

产品用途:
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。 该系统广泛应用于沉积高质量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管(CNT)、石墨烯材料等
,是科研机构和大学实验室的理想产品。

产品介绍:
该设备是一款定制的PECVD系统,增加了倾斜、旋转功能。该系统包含等离子射频电源,高温管式炉,4通道质量流量供气系统和分子泵机组。可用于生长纳米或石墨烯材料。

技术参数:
产品名称 定制旋转PECVD系统
滑轨管式炉部分
产品型号 KJ-T1200-S80-DZPECVD-R
炉管尺寸 80*长度1600mm
可选其他直径Φ50,60,80,100,120,150mm
炉管材质 石英管
加热区 单温区,温区长度400mm
工作温度 1100℃
温度 1200℃
温控方式 K型热电偶
控制方式 触屏控制
控温精度 ±1℃
温控保护 具有超温和断偶保护功能
升温速率 0-20ºC/min可调  ,建议10ºC/min
加热元件 含钼电阻丝
工作电压 AC 220V 单相 50HZ (电路电压用户可选择定制)
加热功率 3KW
炉膛材料 氧化铝多晶纤维
法兰接头 标配配有不锈钢真空法兰,已安装机械压力表和不锈钢截止阀
密封系统 该炉炉管与法兰之间采用硅胶O型圈挤压密封、撤卸方便、可重复撤卸,磁流体密封,气密性好可实现炉管旋转过程中的高真空。
真空系统部分
主要参数 采用高真空分子泵组,炉管内真空度可达10-3pa
气路系统部分
名称 四路质量流量计(量程可选)
等离子电源部分
功率范围 0-500W(连续可调)
售后服务 质保一年,终身保修(耗材类:高温密封圈、炉管、加热元件等及人为损坏不属于质保范围)
更多规格可根据客户需求定制
 

 

 

售后服务

 

 1、我公司对所供设备提供质保一年保修服务(易损件除外),在保修期内因设备质量原因造成的设备损坏或故障,均予以免费维修。保修期满后,仍提供终身的、优质的维修服务。
 2、在设备使用过程中如遇故障的,我公司将尽快做出处理方案,确保设备正常运行。
 3、我公司设提供免费的设备操作培训和简单故障排除维修培训。
 4、我公司技术人员可提供(产品安装调试、整机维护、技术讲解及操作指导等)。
 5、本公司可提供运输服务,包装方式均按照标准安全包装进行。随机技术资料齐全(用户手册、保修手册、有关资料及配件、随机工具等)。
 6、本公司所有产品均有欧盟CE质量认证。

 

 

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