工艺原理：
通过采用紫外线，破坏有机废气分子的化学键，使之裂解形成游离状态的原子或基团（C*、H*、O*等）；同时通过裂解混合空气中的氧气，使之形成游离的氧原子并结合生成臭氧：UV＋O2→O-+O*(活性氧)  O+O2→O3(臭氧)。具有强氧化性的臭氧（O3）与有机废气分子被裂解生成的原子发生氧化反应，形成H2O和CO2。

净化效果与废气分子的键能、废气浓度以及含氧量有关。整个净化过程无需添加任何化学助剂或者特殊限制条件。从实际情况来看，UV灯波长的选择以及废气在设备内的合理停留时间是影响UV光氧化设备去除效率的主要影响因素。