化学过滤器
品牌
厂商性质
所在地
针对不同使用环境的化学过滤器
在半导体生产过程中，不仅微小的颗粒甚至是极其微量的化学污染也会降低产品的合格率。
因此，半导企业通过安装高效率的化学过滤器，实现洁净的生产环境。
我司生产的化学过滤器，能够有效地去除半导体工厂中的AMCs物质。
AMCsAirbome molecular contamination ) 是半导体生产当中各种化学污染物质的统称（有机，碱性，酸性气体）。
特点：
1．去除效率高达90%以上
2．使用寿命长
3．精良的制造技术，安装方便
4．服务（从附着剂加添，产品组装到安装）
5．可以按照客户的要求设计过滤器
适用范围：
1．半导体，LCD等超精密制造工艺
2．恶臭以及有害气体容易产生的地方
3．医院，博物馆公共场所等对空气环境要求高的场所
主要产品：
1．● CAFILDEX® PL系列
| 规格 | CAFILDEX PL系列 |
| 大小 (W*L*D/mm) | 610*610*150T (接受非标定做) |
| 效率(%) | < 90 |
| 速度 (m/s) | ~ 2.5 |
| 差压(mmAq) | ~ 15.0 |
| 媒介 | IER, IAC, IA,吸附剂 |
| 框架 | AL, GI, SUS |
| 适用对象 | FFU, EFU, MAU, RAU |
| 目标气体 | NH3, tAcid, VOCs |
2．● CAFILDEX® TY系列
| 规格 | CAFILDEX TY系列 |
| 大小 (W*L*D/mm) | 610*610*450T (接受非标定做) |
| 效率(%) | < 90 |
| 速度 (m/s) | ~ 2.5 |
| 差压(mmAq) | ~ 15.0 |
| 媒介 | IER, IAC, IA,吸附剂 |
| 框架 | AL, GI, SUS |
| 适用对象 | MAU, RAU |
| 目标气体 | NH3, tAcid, VOCs |
3．● CAFILDEX® CE 系列
| 规格 | CAFILDEX® CE系列 |
| 大小 (W*L*D/mm) | 572*1167*55T (接受非标定做) |
| 效率(%) | < 90 |
| 速度 (m/s) | ~ 0.45 |
| 差压(mmAq) | ~ 3.0 |
| 媒介 | IER, IAC, IA, 吸附剂 |
| 框架 | AL, GI, SUS |
| 适用对象 | FFU, EFU, MAU, RAU |
| 目标气体 | NH3, tAcid, VOCs |
4．● CAFILDEX® BT 系列
| 规格 | CAFILDEX BT系列 |
| 大小 (W*L*D/mm) | 640*640*470 (接受非标定做) |
| 效率(%) | < 90 |
| 速度 (m/s) | ~ 0.45 |
| 差压(mmAq) | ~ 3.0 |
| 媒介 | IER, IAC, IA,吸附剂 |
| 框架 | AL, GI, SUS |
| 适用对象 | FFU |
| 目标气体 | NH3, tAcid, VOCs |
5
● CAFILDEX® SW系列
| 规格 | CAFILDEX SW系列 |
| 大小 (W*L*D/mm) | 610*610*200T (接受非标定做) |
| 效率 (%) | < 90 |
| 速度 (m/s) | ~ 2.5 |
| 差压(mmAq) | ~ 15 |
| 媒介 | IER, IAC, IA,吸附剂 |
| 框架 | AL, GI, SUS |
| 适用对象 | FFU, EFU, MAU, RAU |
| 目标气体 | NH3, tAcid, VOCs |
