碳纳米高剪切分散乳化机
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碳纳米高剪切分散乳化机
碳纳米高剪切分散乳化机

NKD2000碳纳米高剪切分散乳化机

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2015-09-28 10:43:15
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上海新浪轻工机械设备有限公司

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产品简介

【碳纳米高剪切分散乳化机的特点】
①   线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。
②   定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④   在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
⑤   高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

详细介绍

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 【碳纳米管导电浆料及其制备方法】

    碳纳米管导电浆料及其制备方法

    碳纳米管导电浆料主要由碳纳米管、其他导电填料、分散助剂、和溶剂组成,其质量百分比组成为:碳纳米管:0.5~15%,其他导电物质0.1~2%,分散助剂:0.1~5%,其余为溶剂。

    该碳纳米管导电浆料制备方法为:首先将分散助剂溶解在溶剂中,然后在搅拌条件下加入碳纳米管和其他导电填料,待碳纳米管和其他导电填料充分浸润后,采用shsina高剪切分散乳化机对浆料进行研磨分散,几小时后即可得到稳定分散的碳纳米管导电浆料。本发明方法简单,不破坏碳纳米管结构和导电性,所制得的碳纳米管导电浆料具有优良的导电性,且性质稳定均一,静置3个月后,浆料稳定性>90%。
           

shsina高剪切分散乳化机在碳纳米管浆料分散中的优势】

    
   对于碳纳米管浆料以及其他锂电池浆料的研磨分散,普遍存在着2个难以解决的问题:
  
   1、研磨的细度,传统的设备研磨设备是通过刀头去磨细,这样经常会破坏碳纳米管结构和导电性,使物料变性。shsina高剪切分散乳化机,细化物料更多的是通过物料与物料直接的撞击来完成研磨细化的功能,不会破坏物料结构。

   2、容易形成二级团聚体,在碳纳米管粒径细化之后,由于分子之间的作用力,小的物料又会二次团聚,从而影响终产品的物料粒径以及分散的效果。shsina高剪切分散乳化机很好的克服了二级团聚的现象,shsina高剪切分散乳化机是研磨机和分散机一体化的设备,在碳纳米管浆料粒径细化后,瞬间通过分散工作腔,进行分散,避免二次团聚的现象。
   
   NKD2000系列研磨分散设备是shsina(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择) 
 

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
    第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。 
             

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【碳纳米高剪切分散乳化机的特点】

①   线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。

②   定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④   在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

⑤   高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
       

【分散机设备选型表】

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

NKD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

NKD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

NKD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

NKD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

NKD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

NKD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

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碳纳米高剪切分散乳化机信息来源于www.shsina。。com

 

 

 

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