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上海新浪超高速大豆胶体研磨机
纳米氧化锌粒径介于1-100 nm之间,是一种面向21世纪的新型高功能精细无机产品,表现出许多特殊的性质,如非迁移性、荧光性、压电性、吸收和散射紫外线能力等,利用其在光、电、磁、敏感等方面的奇妙性能,可制造气体传感器、荧光体、变阻器、图像记录材料、压电材料、压敏电阻、高效催化剂、磁性材料和塑料薄膜等。
如果使用普通的分散设备,很难将纳米氧化锌分散均匀,会出现团聚的现象,团聚体难以打开,而如果采用CIK研发的分散设备,研磨分散机的话,先研磨后分散机,解决团聚问题,可达纳米氧化锌还原至纳米级。
上海新浪超高速大豆胶体研磨机是由胶体磨+分散机结合而成的设备,主要是为了解决纳米级物料的分散,如:纳米碳酸钙、纳米、纳米氧化铝、石墨烯、碳纳米管等纳米级物料的分散。
NKD2000系列研磨分散设备是上海新浪公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)
NKD2000系列的特点:
① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
型号 | 流量 L/H | 输出转速 rpm | 线速度 m/s | 马达功率 KW | 出/入口连接 |
NKD2000/4 | 700 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
NKD2000/5 | 3,000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
NKD2000/10 | 8,000 | 4,200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
NKD2000/20 | 20,000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
NKD2000/30 | 40,000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
NKD2000/50 | 80,000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |