光学材料生产用超纯水设备概述：

光学材料生产用超纯水设备包括四个流程：洗涤、漂洗、脱水、干燥。 因为洗涤过程分溶剂清洗和水基清洗，所以有不同的工艺：有行溶剂清洗、溶剂蒸汽干燥再进行水基清洗;也有行溶剂清洗，再用乳化剂溶解溶剂，再进行水基清洗的。利用流水将洗涤后镜片表面的洗剂和污物溶解、排除的过程称为漂洗。

光学材料生产用超纯水设备水质要求：

手机面板、光学镜片、光学玻璃清洗对超纯水水质要求高，带电力离子和污垢会对镜片产生不可逆损害,终端水质要求≥17.5MΩ*cm(25℃)。

光学材料生产用超纯水设备技术要求：

光电光学玻璃行业的超纯水设备主要是为玻璃清洗时给超声波提供超纯水，镀膜玻璃镜片清洗超纯水设备设计上，采用成熟、可靠、自动化程度高的两级RO+EDI+SMB除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水水质出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。关键设备及材料均采用主流可靠产品，采用PLC+触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。

光学材料生产用超纯水设备标准：

1.研磨是光学玻璃生产中决定其加工效率和表面质量(外观和精度)的重要工序。

2.研磨工序中的主要污染物为研磨粉和沥青，少数企业的加工过程中会有漆片。

3.其中研磨粉的型号各异，一般是以二氧化铈为主的碱金属氧化物。

4.根据镜片的材质及研磨精度不同，选择不同型号的研磨粉。

5.在研磨过程中使用的沥青是起保护作用的，以防止抛光完的镜面被划伤或腐蚀。

6.玻璃研磨过后，需要用超纯水进行产品的清洗，以获得高品质的产品。