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L2005A1进口狭缝涂布仪英国OSSILA
进口狭缝涂布仪英国OSSILA系统为您的研究提供以下益处：
•不锈钢槽模头为您提供均匀的分配解决方案
•内置便捷的操作软件 - 该系统拥有自己的独立数字控制系统，因此您无需将其连接至外部计算机
•可互换的垫片 - 通道厚度可变，通用性更高
•内置* - 因此您可以同步开始时间，不需要单独接外部* 参考价￥100000 -
CS18狭缝式薄膜涂布机
狭缝式薄膜涂布机（狭缝挤出式涂布机/钙钛矿太阳能电池涂布机）适用于有机太阳能电池OPV和钙钛矿太阳能电池PVK等基材的涂布，非连续基材如LCD玻璃基板光阻涂布，也应用于光学膜（增亮膜、hardcoat、偏光膜、扩散膜等）、OLED涂布等狭缝式薄膜涂布机。 参考价￥10000 -
PSDP-UV4TNovascan紫外臭氧清洗机 紫外臭氧清洗仪
PSD Pro系列：
PSDP 系列产品是研究级的紫外臭氧清洗系统，具有*的灵活性，能满足有机分子去除和其他众多的应用。可以直接在空气中操作，或是通过其中一个进气口通入氧气来增加臭氧产生。可编程数字控制器可以控制系统进程，来确保精确时间和优化清洗参数。
•可编程数字控制器
•数字显示倒计时
•轻松升级到热盘选项
•可执行暂停和终止指令
•内部存储器用于记录之前的参数设 参考价￥10 -
PSD-UV8Novascan台式紫外臭氧清洗机 紫外臭氧清洗仪
PSD系列产品是数字控制的台式清洗设备，可以提供4×4英寸至12×16英寸的清洗尺寸。设备配备一个带反射罩的高强度UV格栅灯盘, 和可调节高度的样品台，用于优化样品位置和清洗效果。4英寸或者更大尺寸的系统具有进出气接口。该系统由一个方便的预设置控制器控制，非常容易操作。 参考价￥100 -
PPC973PPC等离子去胶机 等离子清洗机
PLASMA-PREEN等离子清洗/蚀刻系统是一台台式微波等离子清洗机设备。等离子清洗机系统融合了下面的特点，并在众多的应用领域中得到肯定。 参考价￥1000 -
EM-KLEENEM远程等离子清洁仪 等离子清洗机
远程等离子清洁的原理
远程等离子源需安装在要被清洁的真空腔室上，控制器向远程离子源提供射频能量。射频电磁场能激发等离子体，分解输入气体而产生氧或氢的活性基，活性基会扩散到下游的真空腔室，并与其中的污染物发生化学反应，反应产物能轻易地被抽走。远程等离子清洗机可同时清洁真空系统和样品。 参考价￥10000 -
Tergeo EMSEM扫描电镜等离子清洗机
污染物对电子显微镜SEM/TEM和其它高真空系统产生的影响
润滑剂、真空脂、泵油样品中的高分子聚合物，或未经处理的空气都会把碳氢污染物引到真空系统中。低蒸汽压下高分子重污染物会凝聚在样品表面和腔室壁上，而使用普通气体吹扫方法很难把碳氢污染物清除。
电子和高能光子（EUV, X-ray）能够分解存在于真空系统中或样品上的碳氢污染物。碳氢化合物的分解产物沉积在被观测的样品表面或电子光学部件 参考价￥100 -
Tergeo美国PIE等离子清洗机
1）腔体材质：圆柱形石英玻璃舱；
2）腔体容积：2.6L；
3）腔体尺寸：内径：110毫米，深度：280毫米。 参考价￥100 -
Tergeo-PlusPIE等离子清洗机
1、13.56MHz高频射频发生器；
2、7英寸触摸屏控制界面，全自动操作；
3、标配75W版本，可选150W版本；
4、系统具有双等离子源。浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻。远程式等离子源用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化。 参考价￥100 -
PDC-002-HPHarrick小型等离子清洗机HP
Harrick小型等离子清洗机HP短时间的清洗就可以使有机污染物被*地清洗掉，同时污染物被等离子体表面处理仪的真空泵抽走，这款等离子体表面处理仪的清洗程度达到分子级。Harrick等离子体表面处理仪除了具有超清洗功能外，在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能： 参考价￥10000 -
PDC-FMG-2Harrick 气体流量控制器
Harrick 气体流量控制器技术参数：
紧凑的台式设备、符合CE 安全标准
两个标准的气体流量计（0.104 scfh & 0.22 scfh） 参考价￥10000 -
PDC-002Harrick 氧等离子表面处理仪 等离子体表面处理仪
Harrick 氧等离子表面处理仪除了具有超清洗功能外，在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能：等离子体表面处理仪的等离子体作用于材料表面，使表面分子的化学键发生重组，形成新的表面特性。 Harrick 等离子体表面处理仪对某些有特殊用途的材料，在超清洗过程中等离子体表面处理仪的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性，并可消毒和杀菌。 Harrick 等离子体表面处理仪广泛应用 参考价￥10000