纳米材料粒度测试方法大全
纳米材料是指三维空间尺寸中至少有一维处于纳米数量级(1~100 nm),或由纳米结构单元组成的具有特殊性质的材料,被誉为“21世纪重要战略性高技术材料之一”。当材料的粒度大小达到纳米尺度时,将具有传统微米级尺度材料所不具备的小尺寸效应、量子尺寸效应、表面效应等诸多特性,这些特异效应将为新材料的开发应用提供崭新思路。
AXIS ULTRA DLD岛津X射线光电子能谱仪AXIS ULTRA DLD
品牌
经销商厂商性质
所在地
X射线光电子能谱仪AXIS ULTRA DLD的介绍
X射线光电子能谱仪由岛津制作所H首庸?-英国KRATOS公司生产。AXIS ULTRA DLD 是实时成像XPS的产品。空间分辨率小于3μm。
1.可集成多种分析技术
AXIS ULTRA DLD标准配备了具有多个国际标准窗口的样品处理室,作为样品的前处理腔,功能强大且扩展性强。能�对应样品加热制冷及具有反应功能的样品反应池,多样品停放器等许多选购件。样品分析室可以增加UPS、FE-AES、ISS等分析方法,可以组合成复合分析装置。
2.延迟线探测器(DLD)系统
采用了延迟线探测器。既可以生成谱图又可以生成图像。各测定模式均可以提供正确的脉冲计数。不仅可以在描谱仪模式下,通过128个检测通道提供高灵敏度的测定,还可以不通过分析器的能量扫描,利用快速非扫描的“快照”谱仪模式瞬间测定窄扫描谱。成像模式能够提供256×256像素、空间分辨率小于3μm的苑直媛释枷瘛Ⅻbr />
3.平行成像和微区谱图
采用平均半径达165mm的大型静电半球分析器与成像专用的球镜分析器组合的合成分析器。在进行化学状态分析、深度方向分析等的谱仪分析时,通过大型静电半球分析器能够提供高能量分辨率、高灵敏度的测定。多点微区测定时利用输入透镜内的光电子偏转系统,能够实现准确的点分析。 利用球镜分析器进行平行成像。光电子成像的空间分辨率小于3μm,能够在谱仪测定的同时,极短时间内得到高分辨率图像。
纳米材料是指三维空间尺寸中至少有一维处于纳米数量级(1~100 nm),或由纳米结构单元组成的具有特殊性质的材料,被誉为“21世纪重要战略性高技术材料之一”。当材料的粒度大小达到纳米尺度时,将具有传统微米级尺度材料所不具备的小尺寸效应、量子尺寸效应、表面效应等诸多特性,这些特异效应将为新材料的开发应用提供崭新思路。