美国 OAI INSTRUMENTS光刻机

美国 OAI INSTRUMENTS光刻机

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2019-08-27 14:48:04
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天津赛力斯自动化科技有限公司

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产品简介

美国 OAI INSTRUMENTS光刻机
,OAI是在同行业中的*者超过35年。OAI光功率计以其测量精度,重复性著称,测量数据符合美国NIST标准,广泛应用于半导体光刻能量测量及控制。

详细介绍

 

     天津赛力斯自动化科技有限公司经销美国OAI INSTRUMENTS曝光机、OAI INSTRUMENTS光刻机、OAI INSTRUMENTS光源、OAI INSTRUMENTSOAI INSTRUMENTS光功率计、OAI INSTRUMENTS分析仪。

 

     OAI INSTRUMENTS是业内生产可靠并精密设备的MEMS,半导体,纳米技术,洁净室自动化和紫外线光测量的优秀制造商。OAI系统可同时用于研发和生产半导体,MEMS和微流体装置。从光罩对准和UV光源UV电力仪表,OAI是在同行业中的*者超过35年。OAI光功率计以其测量精度,重复性著称,测量数据符合美国NIST标准,广泛应用于半导体光刻能量测量及控制。

 

产品范围:

美国OAI INSTRUMENTS曝光机、OAI INSTRUMENTS光刻机、OAI INSTRUMENTS光源、OAI INSTRUMENTSOAI INSTRUMENTS光功率计、OAI INSTRUMENTS分析仪

 

主要型号:

Model 306、Model 308、Model 311、Model 316、Model 317、Model 356、Model 357、Model 358、Model 457、Model 458、Model 459

 

美国OAI INSTRUMENTS Model 800半自动光刻机简介:

光刻方式:接近式,软,硬,真空接触式

曝光距离:0-3000μm

间隙调节步进:1um

机械精度:1.5um

光刻精度:软接触2um,硬接触小于1um

 

美国OAI INSTRUMENTS Model 6000全自动光刻机技术规格:

光刻方式:接近式,软,硬,真空接触式

基底尺寸:2-12寸晶圆或者大200mm方形

曝光分辨率:

真空接触:0.5-0.8um

硬接触:0.8-1.0um

软接触:1.0-3.0um

接近式(20um 间隙):3.0um

曝光均匀性:优于±3%

对准精度:顶面0.5um,底面1.0um(选件)

产量:180片/小时大

 

我们的宗旨:信义为根,严谨为本,凝心聚力,行思行远

我们的管理:张弛有度,目标*

我们的团队:专业高效,队坚势盛

我们的服务:掌握市场动态,倾听客户需求

我们的价格:同等质量比价格,同等价格比质量,同质同价比服务

 

 

 

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